[发明专利]一种高遮盖遮瑕液及其制备工艺在审

专利信息
申请号: 202011014044.1 申请日: 2020-09-24
公开(公告)号: CN111920710A 公开(公告)日: 2020-11-13
发明(设计)人: 李继承 申请(专利权)人: 苏州安特化妆品股份有限公司
主分类号: A61K8/895 分类号: A61K8/895;A61K8/891;A61K8/37;A61Q1/12
代理公司: 苏州铭浩知识产权代理事务所(普通合伙) 32246 代理人: 于浩江
地址: 215000 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 遮盖 遮瑕液 及其 制备 工艺
【说明书】:

发明公开了一种高遮盖遮瑕液,在产品中加入聚二甲基硅氧烷/乙烯基聚二甲基硅氧烷交联聚合物、乙烯基聚二甲基硅氧烷/聚甲基硅氧烷硅倍半氧烷交联聚合物,使产品保持高遮盖的同时又能服帖;为了配合产品使用感,配方中特意添加大量润肤剂如:异壬酸异壬酯、十三烷醇偏苯三酸酯、辛基聚甲基硅氧烷、聚二甲基硅氧烷交联聚合物等,从而整体上使用感得到进一步提升;产品的色粉经过特殊工艺处理,使得产品能保持高遮盖的同时又能服帖、不干燥、不油腻、清爽自在。

技术领域

本发明涉及一种高遮盖遮瑕液及其制备工艺,属于化妆品技术领域。

背景技术

目前市面上大多数高遮盖的遮瑕液,会出现肤感偏厚重、不服帖、难推快、粉感太强、不透气、易闷妆等情况;本发明的产品为油包水体系产品,所得产品的贴服性更好、保持高遮盖的同时更加服帖,滑爽、不干燥。

发明内容

针对上述存在的技术问题,本发明的目的是:提出了一种高遮盖遮瑕液及其制备工艺。

本发明的技术解决方案是这样实现的:一种高遮盖遮瑕液,包含以下原料组分:去离子水、环五聚二甲基硅氧烷5%-15%、异壬酸异壬酯3%-8%、异十二烷1%-7%、丁二醇1%-5%、聚二甲基硅氧烷1%-5%、十三烷醇偏苯三酸酯1%-5%、月桂基PEG-9聚二甲基硅氧乙基聚二甲基硅氧烷1%-5%、甘油1%-10%、PEG-10聚二甲基硅氧烷1%-5%、三甲基硅烷氧基硅酸酯0.5%-5%、辛基聚甲基硅氧烷1%-5%、硅石1%-5%、氯化钠0.5%-1%、聚二甲基硅氧烷/乙烯基聚二甲基硅氧烷交联聚合物1%-5%、季铵盐-18膨润土0.1%-1%、云母0.5%-5%、滑石粉0.5%-5%、聚二甲基硅氧烷交联聚合物0.5%-5%、苯氧乙醇0.3%-0.7%、蜂蜡0.3%-0.7%、乙烯基聚二甲基硅氧烷/聚甲基硅氧烷硅倍半氧烷交联聚合物1%-5%、三乙氧基辛基硅烷0.1%-1%、氯苯甘醚0.01%-0.3%、生育酚乙酸酯0.1%-0.5%、乙基己基甘油0.01%-0.05%、EDTA二钠0.05%-0.1%、0.01%-0.05%的甘油聚醚-26、甜菜碱0.01%-0.05%、葡萄糖0.01%-0.05%、0.01%-0.05%的异鲸蜡醇聚醚-10、棉子糖0.01%-0.05%、木芙蓉(HIBISCUSMUTABILIS)花提取物0.02%-0.1%、沙棘(HIPPOPHAERHAMNOIDES)提取物0.02%-0.1%、环四聚二甲基硅氧烷0.005%-0.01%、生育酚(维生素E)0.01%-0.02%、透明质酸钠0.02%-0.1%、CI77891、CI77491、CI77499、CI77492、CI77002。

一种高遮盖遮瑕液的制备工艺,包括以下步骤:

①先将去离子水与氯苯甘醚和EDTA二钠、氯化钠充分搅拌均匀,转速为600-800rpm/min;后将甘油、丁二醇、甜菜碱、葡萄糖、甘油聚醚-26、棉子糖、透明质酸钠、沙棘提取物、木芙蓉花提取物加入其中充分搅拌均匀,转速为800-1000rpm/min;最后升温至80-85℃保温搅拌10-15min,确保水相体系中透明澄清无颗粒后,投入主乳化锅;

②将聚二甲基硅氧烷/乙烯基聚二甲基硅氧烷交联聚合物、乙烯基聚二甲基硅氧烷/聚甲基硅氧烷硅倍半氧烷交联聚合物、异鲸蜡醇聚醚-10、硅石、二氧化钛、铁黄、铁红、铁黑、三乙氧基辛基硅氧烷、氧化铝加入高速搅拌机,转速为900rpm/min,充分搅拌均匀,检查无色素点即可;

③将环五聚二甲基硅氧烷、环四聚二甲基硅氧烷、异十二烷与三甲基硅烷氧基硅酸酯混合搅拌均匀至透明,搅拌300-500rpm/min;后将蜂蜡加入设备中均匀搅拌,加热60-65℃,待蜂蜡完全融化后,将异壬酸异壬酯、聚二甲基硅氧烷、十三烷醇偏苯三酸酯、月桂基PEG-9聚二甲基硅氧乙基聚二甲基硅氧烷、PEG-10聚二甲基硅氧烷、辛基聚甲基硅氧烷、季铵盐-18膨润土、聚二甲基硅氧烷交联聚合物、生育酚乙酸酯称量到一起搅拌;

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