[发明专利]一种基于软磁薄膜的中子自旋翻转装置及其应用

权利要求书

1.一种基于软磁薄膜的中子自旋翻转装置，其特征在于，所述装置包括FeSi软磁薄膜(1)、用于安装软磁薄膜的薄膜支架、与薄膜支架连接的位置调节机构、及用于固定支撑位置调节机构的固定支架(16)；所述薄膜支架包括铝合金框架(2)、L型支架(3)，其中，位置调节机构由上至下包括水平方向角度调节机构、倾斜角度调节机构、升降调节机构及水平方向位移调节机构；中子自旋回波小角散射谱仪中一共包含四套中子自旋翻转装置，该中子自旋翻转装置成对使用，互相平行布置，分别位于散射谱仪的前后臂；

其中，所述水平方向角度调节机构包括与L型支架(3)固定连接的弧摆台(4)，其中弧摆台(4)通过弧摆台调节螺栓(6)、弧摆台锁紧螺栓(5)调节和锁定水平方向上摆动角度；所述的倾斜角度调节机构包括倾斜-俯仰转台台面Ⅰ(8)和倾斜-俯仰转台台面Ⅱ(10)，所述的倾斜-俯仰转台台面Ⅰ(8)和倾斜-俯仰转台台面Ⅱ(10)之间通过弹簧(9)连接；所述的升降调节机构包括升降调节台(13)及升降台调节螺栓(12)；水平方向位移调节机构包括水平方向位移调节台(14)及水平方向位移调节螺栓(15)，其中，所述的弧摆台(4)可拆卸式安装于倾斜-俯仰转台台面Ⅰ(8)的上端面，倾斜-俯仰转台台面Ⅱ(10)可拆卸式安装于升降调节台(13)的上端面，升降调节台(13)可拆卸式安装于水平方向位移调节台(14)的上端面，水平方向位移调节台(14)可拆卸式安装于固定支架(16)，固定支架(16)通过底座(17)固定于实验台，其中，所述的固定支架(16)的高度取决于中子束流的高度。

2.如权利要求书1所述的基于软磁薄膜的中子自旋翻转装置，其特征在于：所述的铝合金框架(2)预留有光滑面作为光学调试基准，为四套自旋翻转装置的平行度调整提供了基准面。

3.如权利要求书1所述的基于软磁薄膜的中子自旋翻转装置，其特征在于：所述的FeSi软磁薄膜(1)采用磁控溅射的方法制备而成。

4.如权利要求书1所述的基于软磁薄膜的中子自旋翻转装置，其特征在于：四套自旋翻转装置的FeSi软磁薄膜平行度好于1mrad，以FeSi软磁薄膜为边界的主磁场内不同位置处的水平方向长度差异小于20μm。

5.如权利要求书1所述的基于软磁薄膜的中子自旋翻转装置，其特征在于：所述的铝合金框架(2)、L型支架(3)采用的是7系铝合金。

6.如权利要求书1所述的基于软磁薄膜的中子自旋翻转装置，其特征在于：所述的升降调节机构和水平方向位移调节机构的位置调节步长为10μm，弧摆台和倾斜角度调节机构的角度调节步长为1mrad。

7.如权利要求书1所述的基于软磁薄膜的中子自旋翻转装置，其特征在于：所述固定支架(16)及位置调节机构均采用无磁性不锈钢材料，外表喷漆。

8.一种如权利要求1-7任一项所述的基于软磁薄膜的中子自旋翻转装置的应用，其特征在于，基于软磁薄膜的中子自旋翻转装置应用于中子自旋回波小角散射谱仪。