[发明专利]用于超快TEM应用的带有快速消隐器的脉冲式CFE电子源在审
申请号: | 202011015762.0 | 申请日: | 2020-09-24 |
公开(公告)号: | CN112563097A | 公开(公告)日: | 2021-03-26 |
发明(设计)人: | 刘坤;E·基夫特 | 申请(专利权)人: | FEI公司 |
主分类号: | H01J37/04 | 分类号: | H01J37/04;H01J37/073;H01J37/147;H01J37/285 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 李雪娜;刘春元 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 tem 应用 带有 快速 消隐器 脉冲 cfe 电子 | ||
1.一种带电粒子束(CPB)系统,其包括:
CPB源,其适于产生具有脉冲式CPB分量或连续CPB分量,或者脉冲式CPB分量和连续CPB分量两者的CPB;
CPB透镜,其定位成接收来自所述CPB源的所述CPB;和
CPB控制器,其联接至所述CPB透镜并且被配置为:
通过激励所述CPB透镜以在射束限制孔径处产生扩展的CPB来产生所述连续CPB分量,以使得所述扩展的CPB基本上衰减,或者
通过激励所述CPB透镜产生与所述脉冲式CPB分量相关联的CPB部分,使得至少与所述脉冲式CPB分量相关联的所述CPB部分基本上由所述射束限制孔径透射。
2.根据权利要求1所述的CPB系统,其进一步包括限定所述射束限制孔径的孔径板。
3.根据权利要求1所述的CPB系统,其中所述CPB源包括场发射器。
4.根据权利要求3所述的CPB系统,其中所述场发射器是LaB6纳米棒。
5.根据权利要求1所述的CPB系统,其中所述CPB源能用于建立所述脉冲式CPB分量的射束电流。
6.根据权利要求3所述的CPB系统,其中所述CPB控制器联接至提取电极、抑制电极或CPB透镜,所述提取电极、抑制电极或CPB透镜能用于建立所述脉冲式CPB分量和所述连续CPB分量中的至少一个的射束电流。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的CPB系统,其进一步包括射束消隐器,所述射束消隐器定位成从所述射束限制孔径接收所述CPB,其中所述CPB控制器能用于激励所述射束消隐器以选择性地使所接收的CPB偏转。
8.根据权利要求7所述的CPB系统,其进一步包括限定消隐孔径的消隐孔径板,其中所述射束消隐器能用于选择性地将所述CPB偏转至所述消隐孔径以阻挡所接收的CPB的至少一部分。
9.根据权利要求7所述的CPB系统,其中所述射束消隐器包括静电偏转器。
10.根据权利要求7所述的CPB系统,其中所述射束消隐器包括RF谐振腔。
11.根据权利要求7所述的CPB系统,其中所述控制器联接至所述CPB透镜,以将所述CPB聚焦在所述射束消隐器处。
12.根据权利要求7所述的CPB系统,其进一步包括X射线屏蔽件,所述X射线屏蔽件围绕CPB射束轴线定位并且限定X射线屏蔽区域,其中所述射束限制孔径位于所述X射线屏蔽区域内。
13.根据权利要求12所述的CPB系统,其中所述CPB源定位成当所述射束消隐器未致动时引导所述CPB被所述消隐孔径阻挡。
14.根据权利要求12所述的CPB系统,其中所述CPB透镜被配置成产生位于所述射束限制孔径与所述消隐孔径之间的CPB焦点。
15.一种CPB方法,其包括:
选择第一CPB射束焦点或第二CPB焦点,其中所述第一CPB焦点定位成基本上衰减所述射束限制孔径处的CPB,并且所述第二CPB焦点定位成使得所述CPB基本上由所述射束限制孔径透射;
在选择所述第一CPB焦点的情况下,激活CPB源以至少产生所述CPB的连续分量,并且将所述连续分量引导至目标;和
在选择所述第二CPB焦点的情况下,至少产生所述CPB的脉冲式分量,并且将所述脉冲式分量引导至所述目标。
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