[发明专利]一种测量工业水池水位的设备及方法

权利要求书

1.一种测量工业水池水位的设备，其特征在于：包括设置在水池内端部截面积相同的主水位管(10)和次水位管(5)，主水位管(10)通过连通支管(8)与水池连通，主水位管(10)远离水池底部的一端设置有浮塞(3)，浮塞(3)底部设置有正极(4)，主水位管(10)底部设置有负极(7)；次水位管(5)通过连通支管(8)与水池连通，次水位管(5)的顶部与底部均呈封闭状态，且顶部设置有正极(4)，底部设置有负极(7)，主水位管(10)和次水位管(5)均分别与导线串联成两个独立的电回路，电回路中设置有测量电回路阻抗的阻抗测量装置。

2.根据权利要求1所述的一种测量工业水池水位的设备，其特征在于：主水位管(10)所在的电回路中浮塞(3)的上方位置还设置有盘线器(2)，用于补偿浮塞(3)在主水位管(10)内移动时导线的移动距离，盘线器(2)中的导线与浮塞(3)中的正极(4)连接。

3.根据权利要求2所述的一种测量工业水池水位的设备，其特征在于：所述盘线器(2)包括上部和下部，上部为导线存储空间，下部为用于承受上部重力的浮块(22)。

4.根据权利要求3所述的一种测量工业水池水位的设备，其特征在于：导线存储空间呈锥形状。

5.根据权利要求1所述的一种测量工业水池水位的设备，其特征在于：两个电回路中均设置有报警装置，报警装置与阻抗测量装置电连接。

6.根据权利要求1所述的一种测量工业水池水位的设备，其特征在于：主水位管(10)的内部设置有限制浮塞(3)移动的限位环(9)。

7.根据权利要求6所述的一种测量工业水池水位的设备，其特征在于：所述限位环(9)由绝缘材质制成。

8.根据权利要求1或6所述的一种测量工业水池水位的设备，其特征在于：所述连通支管(8)上设置有用于过滤水中杂质的过滤环(6)。

9.根据权利要求8所述的一种测量工业水池水位的设备，其特征在于：所述过滤环(6)包括与连通支管(8)连接的环形壳体，环形壳体内部设置有过滤网。

10.一种使用如权利要求1-9任一项权利要求所述的测量工业水池水位的设备的测量方法，包括以下步骤：

S1：分别测量出次水位管(5)中的水柱高度L₂，浮塞(3)中正极(4)到主水位管(10)顶部的距离L₆，主水位管(10)的底部的壁厚L₇；

S2：根据电阻的计算公式：分别计算出主水位管(10)内电阻值R₁和次水位管(5)内电阻值R₂；其中，R为电阻值：ρ为电阻率：L为电阻的长度：F为电阻的截面积；

S3：根据电回路阻抗的阻抗测量装置测量得出两个电回路中的电阻值R₄和R₅，通过比值法算出主水位管(10)内的水柱高度

S4：最终将主水位管(10)内的水柱高度L₁、浮塞(3)中正极(4)到主水位管(10)顶部的距离L₆和主水位管(10)的底部的壁厚L₇这三者相加得到主水位管(10)的水位高度也就是水池的水位高度L。