[发明专利]一种水上浮台用稳定装置

说明书

本发明公开了一种水上浮台用稳定装置，包括主矩形外壳，所述主矩形外壳的一侧安装有主安装板，所述主矩形外壳在与主安装板对立侧面的中部设有一主部件安装凹槽，所述主矩形外壳在位于所述主部件安装凹槽的上下表面通过轴承安装两主旋转轴。本发明安装在水上浮台侧面，当浪潮发生时，浪潮会带动水面液体移动，该移动直接作用在旋转板表面，此时，旋转板会朝向浪潮移动方向旋转，该旋转会使得环形斜面机构旋转，在斜面的限位作用下，使得旋转方位的液体上移，逆向旋转方向部位的液体下移，液体会发生相对于浪潮方向的逆向旋转，使得位于浪潮撞击部位的液体量加大，从而加重水上浮台在该部位的重力，提高其抗击效果，增加水上浮台的稳定性。

技术领域

本发明涉及稳定技术领域，具体为一种水上浮台用稳定装置。

背景技术

目前，在水面工作的设备，比如水上浮台或者水上浮力灯塔，都是在漂浮在液面上，提供工作场所，但是由于浪潮或者液面的反复运动，导致其在工作时，会使得水上浮台反复发生倾斜，对限位连接部位产生损伤。

发明内容

本发明的目的在于提供一种水上浮台用稳定装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种水上浮台用稳定装置，包括主矩形外壳，所述主矩形外壳的一侧安装有主安装板，所述主矩形外壳在与主安装板对立侧面的中部设有一主部件安装凹槽，所述主矩形外壳在位于所述主部件安装凹槽的上下表面通过轴承安装两主旋转轴，两所述主旋转轴在对立端安装一主旋转板，所述主旋转板在位于外部空间的侧面安装一旋转立板，所述主旋转板圆周侧面的底部安装一环形斜面机构，所述主矩形外壳设有两第一缓冲外壳和第二缓冲外壳，且所述第一缓冲外壳和第二缓冲外壳的轴心线关于主部件安装凹槽的横向轴心线对称设置，所述第一缓冲外壳和第二缓冲外壳内部中心分别设有第一缓冲空间和第二缓冲空间，所述第一缓冲外壳和第二缓冲外壳侧面的底部之间设有一主流动管道，所述主流动管道的内部设有连通第一缓冲空间侧面顶部和第二缓冲空间侧面顶部的主流动孔，所述第一缓冲空间和第二缓冲空间的内部分别安放有主活塞板和副活塞板的底部中心分别安装一主伸缩杆和副活塞杆，所述主伸缩杆和副活塞杆的底部分别安装一底部为斜面的抵触板，两所述抵触板的底部抵触在环形斜面机构的斜面上。

进一步的，所述环形斜面机构包括环形斜面机构用环形板、环形斜面机构用环形平面台、环形斜面机构用第一斜面结构和环形斜面机构用第二斜面结构。

进一步的，所述环形斜面机构用环形板的中心部位设有环形斜面机构用环形平面台，所述环形斜面机构用环形板在位于所述环形斜面机构用环形平面台的两侧分别设有环形斜面机构用第一斜面结构和环形斜面机构用第二斜面结构。

进一步的，所述环形斜面机构用第一斜面结构和环形斜面机构用第二斜面结构是有环形斜面机构用环形板底表面到环形斜面机构用环形平面台表面过渡连接形成的斜面结构。

进一步的，所述环形斜面机构用环形板的内侧安装在主旋转板圆周侧面的底部，且所述环形斜面机构用第二斜面结构的中心对称部位和旋转立板的平面处于同一直线上。

进一步的，所述环形斜面机构用第一斜面结构和环形斜面机构用第二斜面结构的表面分别抵触一抵触板，且所述环形斜面机构用第一斜面结构和环形斜面机构用第二斜面结构的倾斜角度和抵触板的倾斜角度一致。

进一步的，所述第一缓冲空间内壁、第二缓冲空间内壁、主流动孔、主活塞板和副活塞板上表面之间形成的密封区域内部填充有缓冲液。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明安装在水上浮台侧面，当浪潮发生时，浪潮会带动水面液体移动，该移动直接作用在旋转板表面，此时，旋转板会朝向浪潮移动方向旋转，该旋转会使得环形斜面机构旋转，在斜面的限位作用下，使得旋转方位的液体上移，逆向旋转方向部位的液体下移，液体会发生相对于浪潮方向的逆向旋转，使得位于浪潮撞击部位的液体量加大，从而加重水上浮台在该部位的重力，提高其抗击效果，增加水上浮台的稳定性。