[发明专利]涂布显影装置和涂布显影方法

权利要求书

1.一种涂布显影装置，在基板形成抗蚀膜并将该基板搬送至曝光装置，之后对通过该曝光装置进行了曝光的基板进行显影处理，其特征在于，所述涂布显影装置具备：

处理块，其设置有对曝光前或曝光后的基板进行处理的处理模块；以及

中继块，其将所述处理块与所述曝光装置沿宽度方向进行连结，

其中，所述中继块设置有针对所述曝光装置进行基板的搬入和搬出的搬入搬出机构，

所述处理块沿上下方向被进行多层化，

所述处理块沿所述上下方向在多个搬送区域中的搬送区域中分别设置有多个用于搬运所述基板的搬送机构，其中每个搬送区域在所述宽度方向上延伸，

在所述处理块中的、所述中继块的所述搬入搬出机构可访问的高度位置的层中，

在所述中继块侧端设置有用于在两个块间交接基板时载置该基板的交接部，

在与所述宽度方向正交的深度方向上隔着所述搬送区域设置的两个区域中的至少一个区域，沿所述宽度方向设置有多个用于收容曝光前的基板的曝光前收容部，以及

在所述两个区域中的未设置所述曝光前收容部的部分设置有不会对基板带来状态变化的非处理单元。

2.根据权利要求1所述的涂布显影装置，其特征在于，

所述非处理单元包括处理液单元，所述处理液单元具有贮存在所述处理模块中使用的处理液的处理液瓶和向所述处理模块加压输送所述处理液的泵中的至少任一方。

3.根据权利要求2所述的涂布显影装置，其特征在于，

设置有用于操作所述涂布显影装置的操作面板，其中

在所述两个区域中的靠所述操作面板侧的区域设置有所述处理液单元。

4.根据权利要求1所述的涂布显影装置，其特征在于，

所述非处理单元包括对所述基板进行检查的检查模块。

5.根据权利要求1所述的涂布显影装置，其特征在于，

所述可访问的高度位置的层为所述处理块中的下侧的层。

6.根据权利要求1所述的涂布显影装置，其特征在于，

所述处理块包括沿所述宽度方向进行了连接的多个子块。

7.根据权利要求6所述的涂布显影装置，其特征在于，

在与设置有所述非处理单元和所述曝光前收容部的第一子块不同的第二子块中设置有用于进行所述显影处理的显影模块；

在所述第二子块中，在设置有所述显影模块的层中的与所述第一子块相反的一侧设置有检查所述显影处理后的基板的检查模块。

8.根据权利要求7所述的涂布显影装置，其特征在于，

在所述第二子块的与所述第一子块相反的一侧具备承载件块，所述承载件块载置用于将多个基板一起搬送的承载件。

9.根据权利要求1所述的涂布显影装置，其特征在于，

所述交接部具有载置曝光前的基板的曝光前交接部和载置曝光后的基板的曝光后交接部。

10.根据权利要求9所述的涂布显影装置，其特征在于，

所述曝光前交接部设置于与设置有所述曝光后交接部的层不同的层。

11.根据权利要求9所述的涂布显影装置，其特征在于，

所述曝光前交接部设置为多个层，

在所述多个层中共用多个搬送机构中的至少一个搬送机构。

12.根据权利要求9所述的涂布显影装置，其特征在于，所述曝光前交接部构成为能够对被载置的基板进行温度调节。

13.根据权利要求1所述的涂布显影装置，其特征在于，

所述两个区域与所述处理块的不同层中设置有所述处理模块的区域在俯视图中相重叠，其中所述不同层与所述中继块的所述搬入搬出机构可访问的高度位置的层在高度上不同。