[发明专利]基于滤光器阵列的光谱分析模组提高分辨率的方法

权利要求书

1.基于滤光器阵列的光谱分析模组提高分辨率的方法，其特征在于：光谱分析模组至少包括滤光器阵列和探测器阵列，其中滤光器阵列由多个滤光器单元构成，探测器阵列有多个由至少一个探测器单位像素构成的探测器单元；滤光器阵列中的滤光器单元包括至少一层金属图案层和介质薄膜层，金属图案层中具有金属微纳结构，滤光器阵列中具有不同结构参数的各个滤光器单元具有不同的透射光谱特性；对滤光器阵列中各个滤光器单元的结构参数变量的布局进行规划，将所有滤光器单元划分到若干个包含有多个滤光器单元的滤光器单元群，并基于不同的制备工艺对各个滤光器单元群中的滤光器单元的横向结构参数和纵向结构参数分别进行制备和控制；通过在不同的滤光器单元群之间实现对滤光器单元纵向结构参数的调变，以此实现对滤光器阵列中不同滤光器单元的透射光谱中特征波长的变化步长的精细调控，从而大幅提高基于所述滤光器阵列的光谱分析模组的分辨率。

2.如权利要求1所述的基于滤光器阵列的光谱分析模组提高分辨率的方法，其特征在于：将滤光器阵列中的各个滤光器单元划分到若干个滤光器单元群，滤光器单元群中所有的滤光器单元连成一片区域，不同的滤光器单元群的区域之间不相互重叠。

3.如权利要求1所述的基于滤光器阵列的光谱分析模组提高分辨率的方法，其特征在于：滤光器阵列中的同一个滤光器单元群中各个不同的滤光器单元具有不完全相同的横向结构参数、但具有完全相同的纵向结构参数。

4.如权利要求1所述的基于滤光器阵列的光谱分析模组提高分辨率的方法，其特征在于：滤光器阵列中的各个不同的滤光器单元群中的滤光器单元具有不完全相同的纵向结构参数。

5.如权利要求1所述的基于滤光器阵列的光谱分析模组提高分辨率的方法，其特征在于：滤光器阵列中不同的滤光器单元群中相互对应的滤光器单元之间具有相同的横向结构参数、但具有不完全相同的纵向结构参数。

6.如权利要求1或权利要求2中所述的滤光器单元群，滤光器单元群的数目比每个滤光器单元群中滤光器单元的数目少得多，如滤光器单元群的数目为几个或十几个。

7.如权利要求4或权力要求5中所述的不完全相同的纵向结构参数，其中不相同的纵向结构参数为滤光器单元中的各个介质薄膜层中的其中一个介质薄膜层的厚度。

8.如权利要求1所述的基于滤光器阵列的光谱分析模组提高分辨率的方法，其特征在于：滤光器阵列中各个滤光器单元的横向结构参数的控制基于高精度的图案制备工艺，对结构参数的控制精度小于50纳米，且在无需重复的一个工艺流程中进行制备。

9.如权利要求1所述的基于滤光器阵列的光谱分析模组提高分辨率的方法，其特征在于：滤光器阵列中各个滤光器单元的纵向结构参数的控制基于高精度的薄膜淀积工艺，并可结合低精度的图案制备工艺，对结构参数的控制精度小于50微米，通过若干次重复性的工艺流程来在各个不同的滤光器单元群内制备具有不同厚度的介质薄膜层。

10.如权利要求1所述的基于滤光器阵列的光谱分析模组提高分辨率的方法，其特征在于：通过对各个滤光器单元的横向结构参数的控制来实现所述光谱分析模组的低分辨率；在此基础上，通过对各个滤光器单元的纵向结构参数的控制来进一步实现所述光谱分析模组的高分辨率。