[发明专利]一种多源磁控溅射沉积系统在审
申请号: | 202011023025.5 | 申请日: | 2020-09-25 |
公开(公告)号: | CN112126905A | 公开(公告)日: | 2020-12-25 |
发明(设计)人: | 俞兆喆;周利航;程燕 | 申请(专利权)人: | 桂林电子科技大学 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/56 |
代理公司: | 深圳盛德大业知识产权代理事务所(普通合伙) 44333 | 代理人: | 贾振勇 |
地址: | 541000 广西*** | 国省代码: | 广西;45 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 磁控溅射 沉积 系统 | ||
1.一种多源磁控溅射沉积系统,其特征在于,所述系统包括:
溅射舱以及位于所述溅射舱内部的基板平台、靶材以及自动收放卷结构;
所述的基板平台内部存在一个加热源;
在所述基板平台的对立面设置有多个所述靶材,每个所述靶材具有独立的气氛,且所述靶材之间装有磁场屏蔽挡板;
所述自动收放卷结构安装于所述靶材对立面,且牵引箔材经过所述基板平台。
2.根据权利要求1所述的多源磁控溅射沉积系统,其特征在于,所述基板平台为平面、凸面或凹面;
所述基板平台的宽度为5cm~1200cm,长度为5cm~2000cm。
3.根据权利要求2所述的多源磁控溅射沉积系统,其特征在于,所述基板平台内部的加热源加热温度为室温~900℃。
4.根据权利要求1所述的多源磁控溅射沉积系统,其特征在于,所述靶材包括主靶源和多个功能靶源,所述靶材的形状为方形或圆形;
所述主靶源可为1~3个,所述功能靶源可为2~9个。
5.根据权利要求4所述的多源磁控溅射沉积系统,其特征在于,所述靶材为碳、硅、锡、锗基的负极类材料,钴酸锂盐及其氧化物、锰酸锂盐及其氧化物、镍酸锂盐及其氧化物、不同比例的镍钴锰酸锂盐及其氧化物、富锂锰基。
6.根据权利要求1所述的多源磁控溅射沉积系统,其特征在于,所述气氛为氮气、氩气、氧气、氨气、甲烷、乙烯中的至少一种或多种混合气氛。
7.根据权利要求1所述的连续磁控溅射沉积系统,其特征在于,所述自动收放卷结构的宽度为5cm-1200cm。
8.根据权利要求5所述的多源磁控溅射沉积系统,其特征在于,所述自动收放卷结构的收放卷行为方式为连续收放卷或间歇收放卷;
所述连续收放卷的收放速度可为0.001cm/min~100cm/min;
所述间歇收放卷的间歇时间可为0.01min~120min,间歇收放卷速度为0.001cm/min~100cm/min。
9.根据权利要求7所述的多源磁控溅射沉积系统,其特征在于,所述自动收放卷结构的牵引箔材为铜箔或铝箔。
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