[发明专利]一种密集型光波复用滤光片在审
| 申请号： | 202011023350.1 | 申请日： | 2020-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN112099124A | 公开（公告）日： | 2020-12-18 |
| 发明（设计）人： | 陈信源;何伟峰;温勇健 | 申请（专利权）人： | 广州市佳禾光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/28 | 分类号： | G02B5/28;G02B1/14;G02B1/115;G02B6/293 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 谭英强 |
| 地址： | 510535 广东省广州*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 密集型 光波 滤光 | ||
1.一种密集型光波复用滤光片，其特征在于：包括
基体；
滤光层，覆盖在所述基体的一表面上，所述滤光层包括多个交替堆叠的一号介质亚层和二号介质亚层；
抗刮层，盖设在所述滤光层相对于所述基体的表面上；以及
抗反射层，覆设在所述基体的另一表面，所述抗反射层具备多个交替叠置的三号介质亚层和四号介质亚层；
其中，所述一号介质亚层的构成材料为氢化硅，且所述一号介质亚层的折射率高于所述二号介质亚层的折射率，所述一号介质亚层和所述二号介质亚层的层数总和不大于84层。
2.根据权利要求1所述的密集型光波复用滤光片，其特征在于：所述一号介质亚层的厚度为10nm～1500nm。
3.根据权利要求2所述的密集型光波复用滤光片，其特征在于：所述二号介质亚层的构成材料为二氧化硅或者氟化镁。
4.根据权利要求3所述的密集型光波复用滤光片，其特征在于：所述二号介质亚层的厚度为10nm～450nm。
5.根据权利要求1所述的密集型光波复用滤光片，其特征在于：各所述三号介质亚层的所在层为奇数层，所述三号介质亚层的折射率高于所述四号介质亚层的折射率。
6.根据权利要求5所述的密集型光波复用滤光片，其特征在于：所述三号介质亚层通过氢化硅、五氧化二钽、二氧化钛、二氧化锆、五氧化三钛、钛酸镧中的至少一种混合组成。
7.根据权利要求6所述的密集型光波复用滤光片，其特征在于：所述四号介质亚层的构成材料为二氧化硅或者氟化镁。
8.根据权利要求7所述的密集型光波复用滤光片，其特征在于：所述三号介质亚层与所述四号介质亚层的层数相加总和为4～12层，所述三号介质亚层的厚度为30nm～300nm，所述四号介质亚层的厚度为20nm～400nm。
9.根据权利要求1所述的密集型光波复用滤光片，其特征在于：所述抗刮层的制作材质为硅铝化合物，所述抗刮层的厚度为50nm～200nm。
10.根据权利要求1至9任一项所述的密集型光波复用滤光片，其特征在于：所述基体的制作材料采用透明材料，所述基体的厚度范围在0.1mm至20mm之间。
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