[发明专利]一种可调的真空磁控溅射镀膜设备工件转架在审
| 申请号： | 202011024183.2 | 申请日： | 2020-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN112176307A | 公开（公告）日： | 2021-01-05 |
| 发明（设计）人： | 李国强;舒逸;刘光斗;李赞 | 申请（专利权）人： | 湖南玉丰真空科学技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;C23C14/35 |
| 代理公司： | 湖南格创知识产权代理事务所(普通合伙) 43263 | 代理人： | 张文 |
| 地址： | 411100 湖南省*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 可调 真空 磁控溅射 镀膜 设备 工件 | ||
【权利要求书】：
1.一种可调的真空磁控溅射镀膜设备工件转架，其特征在于，包括上支撑盘、上支撑座、下支撑盘、下支撑座、撑杆、活动挂板，所述上支撑盘固定在上支撑座上，所述下支撑盘固定在下支撑座上，所述撑杆连接上支撑盘、下支撑盘，在上支撑盘、下支撑盘之间沿周向分布有多块活动挂板，所述活动挂板一侧与设置在上支撑座、下支撑座之间的转轴连接，在上支撑座、下支撑座上分别对应设置有呈圆弧形的导轨，且导轨的圆弧中心点与转轴的轴线重合，所述活动挂板的另一侧的上、下部分别设置有与导轨相匹配的导向销，所述活动挂板可沿导轨绕转轴转动。
2.如权利要求1所述的一种可调的真空磁控溅射镀膜设备工件转架，其特征在于，所述活动挂板与转轴之间为可拆卸活动连接。
3.如权利要求1所述的一种可调的真空磁控溅射镀膜设备工件转架，其特征在于，所述活动挂板转动的角度在0°到70°之间。
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