[发明专利]磁场可调的磁控溅射阴极在审
| 申请号： | 202011024220.X | 申请日： | 2020-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN112176303A | 公开（公告）日： | 2021-01-05 |
| 发明（设计）人： | 李国强;舒逸;刘光斗;李赞 | 申请（专利权）人： | 湖南玉丰真空科学技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 湖南格创知识产权代理事务所(普通合伙) 43263 | 代理人： | 张文 |
| 地址： | 411100 湖南省*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 磁场 可调 磁控溅射 阴极 | ||
1.磁场可调的磁控溅射阴极，包括靶材、背板、磁体装置、阴极底板以及屏蔽板，其特征在于：所述磁体装置由在长度方向上的多块独立磁场模块组成，每个独立磁场模块分别单独通过调节组件与固定在阴极底板上的固定底板连接，所述调节组件包括调节螺母、调节螺杆、导向柱，所述调节螺母转动连接在固定底板上，所述调节螺杆与调节螺母螺纹连接，调节螺杆穿过固定底板与独立磁场模块连接，所述固定底板上设有导向孔，所述导向柱一端与独立磁场模块固定连接，另一端与导向孔配合。
2.如权利要求1所述的磁场可调的磁控溅射阴极，其特征在于：所述导向柱由与独立磁场模块连接的大直径段以及与大直径段连接的小直径段组成，所述导向孔包括靠近独立磁场模块一侧的大口径段以及远离独立磁场模块一侧的小口径段，所述导向柱的大直径段与导向孔的大口径段相配合，导向柱的小直径段与导向孔的小口径段相配合。
3.如权利要求1所述的磁场可调的磁控溅射阴极，其特征在于：每块所述独立磁场模块处均对应设有作为调节距离参照依据的标尺杆。
4.如权利要求1所述的磁场可调的磁控溅射阴极，其特征在于：每块所述独立磁场模块的长度一致。
5.如权利要求1所述的磁场可调的磁控溅射阴极，其特征在于：相邻独立磁场模块之间相互靠紧。
6.如权利要求1-5任意一项所述的磁场可调的磁控溅射阴极，其特征在于：所述独立磁场模块的调节距离在5mm以内。
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