[发明专利]一种反应池清洗装置

权利要求书

1.一种反应池清洗装置，包括反应池(1)，其特征在于：所述反应池(1)的内部左侧固定设置有沉渣池(20)，所述反应池(1)的右侧固定设置有浮渣池(19)，所述反应池(1)外壳底部的右侧固定设置有底座(2)，所述反应池(1)的前侧板固定设置有外滑轨(3)，所述外滑轨(3)的内活动连接有强磁滑块(4)，所述强磁滑块(4)的两侧设置有滚珠(15)，所述强磁滑块(4)的远离反应池(1)的一侧固定连接有调节卡扣(5)，所述调节卡扣(5)的外圈活动连接有调节螺丝(14)，所述调节卡扣(5)的内圈耦接有活动杆(6)，所述活动杆(6)的顶端固定连接有弹簧(18)，所述活动杆(6)的上端套接有套筒(7)，所述套筒(7)的顶端固定连接有轴套(8)，所述轴套(8)的内部套接有动力轴(9)，所述反应池(1)的内侧前壁和后壁对称设置有内滑轨(10)，所述反应池(1)的内侧前壁和后壁设置对称有滚轮槽(11)，两个所述滚轮槽(11)的内部活动连接有滚轮(12)，两个所述调节卡扣(5)的内圈耦接有清洁杆(13)，两个所述清洁杆(13)之间连接有打捞网(16)，两个所述清洁杆(13)的底部固定连接有毛刷(17)。

2.根据权利要求1所述的一种反应池清洗装置，其特征在于：所述反应池(1)包含沉渣池(20)和浮渣池(19)，且沉渣池(20)与靠近主体侧池底低于其他位置。

3.根据权利要求1所述的一种反应池清洗装置，其特征在于：所述外滑轨(3)和内滑轨(10)以及滚轮槽(11)根据反应池(1)形状和清洁需要，应可以为其他规则几何图形。

4.根据权利要求1所述的一种反应池清洗装置，其特征在于：所述内滑轨(10)和滚轮槽(11)所限制的内部活动机构整体与池内反应物相对位置固定而非反应池(1)。

5.根据权利要求1所述的一种反应池清洗装置，其特征在于：所述外滑轨(3)和内滑轨(10)以及滚轮槽(11)为相同或不同结构的导轨机构。

6.根据权利要求1所述的一种反应池清洗装置，其特征在于：所述强磁滑块(4)和滚轮(12)是相同或不同结构但都适配相应导轨。

7.根据权利要求1所述的一种反应池清洗装置，其特征在于：所述强磁滑块(4)在工作时不直接接触到反应池(1)壁。

8.根据权利要求1所述的一种反应池清洗装置，其特征在于：所述活动杆(6)和清洁杆(13)与调节卡扣(5)的相对位置是可调的。

9.根据权利要求1所述的一种反应池清洗装置，其特征在于：两个所述清洁杆(13)之间的打捞网(16)和毛刷(17)至少有一个能够调整或更换。