[发明专利]溅射系统在审

专利信息
申请号: 202011030503.5 申请日: 2020-09-27
公开(公告)号: CN112921281A 公开(公告)日: 2021-06-08
发明(设计)人: 朴瑨哲;李昱镇;金泰佑 申请(专利权)人: 亚威科股份有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C23C14/24;C23C14/50;C23C14/54;C23C14/56
代理公司: 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 代理人: 姜虎;陈英俊
地址: 韩国大*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 溅射 系统
【权利要求书】:

1.一种溅射系统,其特征在于,包括:

基板传送部,用于供给待进行溅射工艺的基板以及排出已完成溅射工艺的基板;

安装部,与所述基板传送部连接,用于将所述基板传送部供给的基板安装于承载器,以及从承载器分离所述已完成溅射工艺的基板;

溅射部,与所述安装部连接,对安装于所述承载器的基板进行所述溅射工艺;

水汽压管理部,与所述安装部连接,用于调节安装有所述基板的承载器的水汽压;以及

转换部,分别与所述水汽压管理部和所述溅射部连接,当经过所述水汽压管理部的安装有所述基板的承载器的水汽压处于预设的基准水汽压范围以内时,将安装有所述基板的承载器供给到所述溅射部。

2.根据权利要求1所述的溅射系统,其特征在于,

所述基板传送部包括:

基板装载模块,用于投入所述待进行溅射工艺的基板;

基板卸载模块,用于排出所述已完成溅射工艺的基板;以及

基板传送模块,将所述待进行溅射工艺的基板从所述基板装载模块传送到所述安装部,并将所述已完成溅射工艺的基板从所述安装部传送到所述基板卸载模块,

所述安装部包括安装模块,所述安装模块与所述基板传送模块连接,

所述基板装载模块和所述基板卸载模块的各自内部在大气状态与真空状态之间转换,

所述基板传送模块和所述安装模块的各自内部持续保持真空状态。

3.根据权利要求1所述的溅射系统,其特征在于,

所述水汽压管理部包括:

装载腔室,与所述安装部连接;

多个管理腔室,用于调节由所述装载腔室供给的安装有所述基板的承载器的水汽压;

装载测量机构,测量所述装载腔室接收的安装有所述基板的承载器的水汽压;以及

管理控制机构,根据所述装载测量机构所测量的水汽压来控制各个所述管理腔室调节水汽压的调节量。

4.根据权利要求3所述的溅射系统,其特征在于,

所述管理控制机构根据所述装载测量机构所测量的水汽压来控制各个所述管理腔室,以调节各个所述管理腔室排出内部气体的排气流量和提高内部温度的加热温度中的至少一个。

5.根据权利要求3所述的溅射系统,其特征在于,

所述管理控制机构包括:

管理设置模块,当所述装载测量机构所测量的水汽压高于所述基准水汽压范围的最大值时,根据所述装载测量机构所测量的水汽压来设置各个所述管理腔室排出内部气体的排气流量和提高内部温度的加热温度中的至少一个,以使安装有所述基板的承载器在经过多个所述管理腔室时水汽压依次减小;以及

管理控制模块,根据由所述管理设置模块设置的设定值来控制多个所述管理腔室。

6.根据权利要求3所述的溅射系统,其特征在于,

所述水汽压管理部包括多个管理测量机构,多个所述管理测量机构用于测量各个所述管理腔室接收的安装有所述基板的承载器的水汽压,

所述管理控制机构包括:

管理设置模块,当所述装载测量机构所测量的水汽压高于所述基准水汽压范围的最大值时,根据所述装载测量机构所测量的水汽压,对各个所述管理腔室设置目标减小值,以使安装有所述基板的承载器在经过多个所述管理腔室时水汽压依次减小;

管理补正模块,当由前一个管理腔室供给的安装有所述基板的承载器的水汽压与对所述前一个管理腔室设置的目标减小值不同时,对以所述前一个管理腔室为基准时的后一个管理腔室的目标减小值进行补正;以及

管理控制模块,根据对各个所述管理腔室设置的目标减小值来控制多个所述管理腔室。

7.根据权利要求1所述的溅射系统,其特征在于,

所述转换部包括:

转换腔室,与所述水汽压管理部连接;

转换测量机构,测量从所述水汽压管理部供给到所述转换腔室的安装有所述基板的承载器的水汽压;

转换判断机构,判断所述转换测量机构所测量的水汽压是否处于所述基准水汽压范围以内。

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