[发明专利]光调制器用接合体、光调制器及光调制器用接合体的制造方法

权利要求书

1.一种光调制器用接合体，其具备：

支撑基板；

光波导用材料，该光波导用材料由选自由铌酸锂、钽酸锂及铌酸锂－钽酸锂构成的组中的材质形成，并设置于所述支撑基板上；以及

光波导，该光波导存在于所述光波导用材料，

所述光调制器用接合体的特征在于，

所述支撑基板由选自由氧化镁及镁－硅复合氧化物构成的组中的材质形成。

2.根据权利要求1所述的光调制器用接合体，其特征在于，

所述镁－硅复合氧化物为块滑石或镁橄榄石。

3.根据权利要求1或2所述的光调制器用接合体，其特征在于，

在所述支撑基板与所述光波导用材料之间具有接合层。

4.根据权利要求3所述的光调制器用接合体，其特征在于，

所述接合层由氧化物膜形成。

5.一种光调制器，其特征在于，

具备电极和权利要求1～4中的任一项所述的光调制器用接合体，

所述电极设置于所述光波导用材料上，对在所述光波导中传播的光进行调制。

6.一种光调制器用接合体的制造方法，其特征在于，具有如下工序：

将由选自由氧化镁及镁－硅复合氧化物构成的组中的材质形成的支撑基板和由选自由铌酸锂、钽酸锂及铌酸锂－钽酸锂构成的组中的材质形成的光波导用材料接合的工序、以及

在所述光波导用材料设置光波导的工序。

7.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，

所述镁－硅复合氧化物为块滑石或镁橄榄石。

8.根据权利要求5或6所述的方法，其特征在于，

在所述支撑基板与所述光波导用材料之间设置接合层。

9.根据权利要求6～8中的任一项所述的方法，其特征在于，具有如下工序：

在所述光波导用材料上形成第一氧化物膜的工序、

在所述支撑基板上形成第二氧化物膜的工序、以及

将所述第一氧化物膜和所述第二氧化物膜直接键合的工序。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，具有如下工序：

通过对所述第一氧化物膜的表面照射中性原子束而制成第一活化面的工序、以及

通过对所述第二氧化物膜的表面照射中性原子束而制成第二活化面的工序，

将所述第一活化面和所述第二活化面直接键合。