[发明专利]一种彩陶刻画工艺

权利要求书

1.一种彩陶刻画工艺，其特征在于：包括以下步骤：

S1、在胚体成型后对胚体表面进行初次抛光操作；

S2、使用刻刀在抛光后的胚体表面进行图案刻画操作；

S3、在刻画的图案刀痕上涂抹底色涂料，然后将胚体放置于阴凉干燥处5～8小时，将底色涂料阴干；

S4、在底色涂料上再次涂抹上彩涂料，然后将胚体放置与烘干炉中以80～100℃的温度烘干3～5小时，将上彩涂料烘干；

S5、在上彩涂料上再次涂抹第一保护涂料，然后将胚体放置于太阳光下，待第一保护涂料自然晒干；

S6、对胚体表面进行二次抛光操作，然后在图案刀痕之外的胚体表面涂抹第二保护涂料，将胚体放置于烘干炉中以50～60℃的温度烘干1～2小时，将第二保护涂料烘干；

S7、在胚体表面涂覆釉色表面层，然后将胚体放置于烧窑中以800～1000℃的温度烧制2～3天，得到彩陶半成品；

S8、将烧制完成的彩陶半成品在10～15℃的凉水中浸泡5～10分钟后置于太阳光下晒干即可得到成品彩陶。

2.如权利要求1所述的彩陶刻画工艺，其特征在于：所述步骤S3中的底色涂料由二丁基二月桂酸锡、过氧化苯甲酰、水、水性硅丙树脂、聚乙烯蜡混合制成，所述丁基二月桂酸锡、过氧化苯甲酰、水、水性硅丙树脂、聚乙烯蜡的质量比为1～2：1：5～8:2～5:2～3。

3.如权利要求2所述的彩陶刻画工艺，其特征在于：所述步骤S4中的上彩涂料由颜色涂料、二甲基甲酰胺、二氧化钛、环氧树脂、水混合制成；所述颜色涂料、二甲基甲酰胺、二氧化钛、环氧树脂、水的质量比为3～5：1～2:1～2:2～3:3～5。

4.如权利要求3所述的彩陶刻画工艺，其特征在于：所述步骤S5中的第一保护涂料由二甲苯、硅溶胶、二甲基硅油、聚酰胺酰亚胺、水混合制成，所述二甲苯、硅溶胶、二甲基硅油、聚酰胺酰亚胺、水的质量比为1～3：1～2:2～3:2～4:3～4。

5.如权利要求4所述的彩陶刻画工艺，其特征在于：所述步骤S6中的第二保护涂料由聚乙烯醇、硅烷偶联剂、乙酸乙酯、水、氧化保护剂混合制成，所述聚乙烯醇、硅烷偶联剂、乙酸乙酯、水、氧化保护剂的质量比为1～2：1～2:3～5:4～5:1。

6.如权利要求5所述的彩陶刻画工艺，其特征在于：所述氧化保护剂为Al粉、Zn粉、Fe粉和Cu粉混合制成，所述Al粉、Zn粉、Fe粉和Cu粉的质量比为1:1:2:3。