[发明专利]一种激光刻痕机的应用系统在审

专利信息
申请号: 202011039318.2 申请日: 2020-09-28
公开(公告)号: CN111975208A 公开(公告)日: 2020-11-24
发明(设计)人: 张嘉声;文振宇;张荣辉 申请(专利权)人: 广州翔声智能科技有限公司
主分类号: B23K26/36 分类号: B23K26/36;B23K26/70
代理公司: 广州市百拓共享专利代理事务所(特殊普通合伙) 44497 代理人: 刘静
地址: 510000 广东省广州市黄埔*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 激光 刻痕 应用 系统
【说明书】:

发明提供一种激光刻痕机的应用系统,其包括一上层系统、一运动计算子系统、一刻印子系统以及一外部控制子系统,所述上层系统存储不同系列产品对应各子系统工作的关联参数以及指令,通过下发关联参数及指令协调各个子系统同步工作,同时,该上层系统还监测各个子系统的工作状态,并通过所述人机交互模块实现子系统工作异常报警功能;所述运动计算子系统实时监控生产线的速度,结合上层系统下发的参数,根据生产线的速度计算激光器的出光功率以及出光频率;所述刻印子系统控制振镜的运动轨迹以及激光器的出光开关;所述外部控制子系统用于监测激光刻痕机的整机温度,并控制除尘模块以及水冷模块的作业。

技术领域

本发明涉及一种激光设备的系统,尤其涉及一种激光刻痕机的应用系统。

背景技术

现有激光刻痕机在面对大幅面刻印需要解决的是刻印范围的畸变,刻印范围越大,对应边缘部分的畸变就会越大,由于畸变的产生导致了相关需要刻印的图案、文字出现变形,如刻印一条直线,对应畸变的情况下会刻印成几段线段,为了减少大幅面刻印拼接的失真情况,需要激光刻痕机拥有较强的多激光头协调同步刻痕能力,而目前刻痕机应用系统的结构下,由于单独激光头子系统计算能力的限制,导致无法实现多激光头快速同时进行畸变修正,为此,需要提出新的激光刻痕机的应用系统。

发明内容

本发明提供一种激光刻痕机的应用系统,以全新的分布式的系统架构应用在激光刻痕机上,解决刻痕机缺乏快速修正畸变计算力的问题。

本发明提供一种激光刻痕机的应用系统,其用于控制激光刻痕机作业,所述激光刻痕机包括一人机交互模块、预定数量的激光器、与激光器一一对应的振镜、流动生产线、除尘模块以及水冷模块,该应用系统包括一上层系统、一运动计算子系统、一刻印子系统以及一外部控制子系统,所述上层系统存储不同系列产品对应各子系统工作的关联参数以及指令,通过下发关联参数及指令协调各个子系统同步工作,同时,该上层系统还监测各个子系统的工作状态,并通过所述人机交互模块实现子系统工作异常报警功能;所述运动计算子系统实时监控生产线的速度,结合上层系统下发的参数,根据生产线的速度计算激光器的出光功率以及出光频率;所述刻印子系统控制振镜的运动轨迹以及激光器的出光开关;所述外部控制子系统用于监测激光刻痕机的整机温度,并控制除尘模块以及水冷模块的作业。

优选的,所述运动计算子系统通过编码器监测生产线的速度。

优选的,所述运动计算子系统计算生产线速度的公式为V=N*C/1000*P(m/min),其中N为编码器在一分钟走过的编码值,C为编码器的同步轮周长(单位mm),P为编码器转一周的脉冲数。

优选的,所述运动计算子系统还通过一功率补偿算法调整激光器的出光功率以及频率。

优选的,功率补偿算法的公式为:p=kV+b,其中,k为补偿系数,b为最小功率,V为生产线速度。

优选的,所述刻印子系统通过几何校正防止刻印畸变。

优选的,所述外部控制子系统还控制该激光刻痕机的供电模块。

优选的,所述上层系统通过以太网或串口实现与子系统的通信。

本发明提供的激光刻痕机的应用系统,与传统刻痕机的应用系统相比本应用系统将激光器的工作参数,如出光功率以及出光频率等集中在运动计算子系统上执行,而传统的应用系统由每个激光器自行计算功率及频率,计算速度以及处理效率得到了大幅提升,刻印子系统只需要计算振镜的运动轨迹以及控制激光器的启闭,外部控制子系统负责监控整机的工作情况,该分布式应用系统使各子系统各司其职,使整机系统计算力大幅提升的情况下,解决了畸变修正的大量数据处理需求,在降低了整体系统负荷的同时,提升整机工作效率以及寿命,并且实现高质量刻印。

附图说明

图1是本发明提供的激光刻痕机的应用系统的逻辑关系图;

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