[发明专利]介质输送装置、后处理装置以及记录装置有效

专利信息
申请号: 202011040534.9 申请日: 2020-09-28
公开(公告)号: CN112623844B 公开(公告)日: 2023-03-24
发明(设计)人: 古御堂刚;中泽笃史;中幡彰伸 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: B65H31/36 分类号: B65H31/36
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 李丹
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 介质 输送 装置 处理 以及 记录
【权利要求书】:

1.一种介质输送装置,其特征在于,具备:

引导构件,从下方支撑在输送方向上被输送的介质并进行引导;

积蓄部,具有对齐部并积蓄多个所述介质,所述对齐部对介质摞的所述输送方向的上游端进行对齐,所述介质摞由所述引导构件支撑并引导的多个所述介质构成;

送入部,具有由弹性体构成的送入构件,通过该送入构件旋转而将所述积蓄部的所述介质向所述对齐部送入;以及

切口部,形成于所述引导构件,在该引导构件的与所述输送方向交叉的宽度方向上,在配置有所述送入构件的区域中,向所述输送方向的上游侧被切开,

所述送入部的旋转中心配置在所述积蓄部与所述引导构件之间并且在从所述宽度方向观察的情况下所述送入构件的顶端部的旋转轨迹与所述引导构件相交的位置,

所述切口部的所述输送方向的上游侧的端部形成于比所述旋转轨迹靠内侧的位置。

2.根据权利要求1所述的介质输送装置,其特征在于,

在所述引导构件的所述切口部的所述输送方向的上游侧的与支撑所述介质的面相反的面,设置有通过所述送入构件接触而清扫所述送入构件的清扫部。

3.根据权利要求1或2所述的介质输送装置,其特征在于,

在从所述宽度方向观察所述送入构件的情况下,从所述送入构件的所述旋转中心到所述切口部的第一距离比从该旋转中心到所述积蓄部的第二距离短。

4.根据权利要求1或2所述的介质输送装置,其特征在于,

输送所述介质的输送构件以能够旋转的方式连结于所述引导构件中的所述切口部的所述宽度方向的一侧的侧壁。

5.根据权利要求1或2所述的介质输送装置,其特征在于,

所述送入构件具备:

轴部,设置成能够以所述宽度方向为轴向进行旋转;以及

至少一个叶片部,从该轴部向外侧延伸,

所述叶片部在所述介质被所述引导构件引导的情况下,位于相对于所述引导构件与所述介质侧相反的一侧的退避位置。

6.根据权利要求5所述的介质输送装置,其特征在于,

所述送入构件具备在旋转方向上隔开间隔配置的多个所述叶片部,

在多个所述叶片部中的一个所述叶片部位于所述退避位置的状态下,其它所述叶片部与所述积蓄部的所述介质摞接触。

7.一种后处理装置,其特征在于,具有:

权利要求1至6中任一项所述的介质输送装置;以及

处理部,对由所述介质输送装置输送的介质进行后处理。

8.一种记录装置,其特征在于,具有:

记录部,在介质记录信息;以及

权利要求7所述的后处理装置,对由所述记录部记录了信息的介质进行所述后处理。

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