[发明专利]一种熔石英强激光光学元件超精密加工方法在审

专利信息
申请号: 202011043621.X 申请日: 2020-09-28
公开(公告)号: CN112157486A 公开(公告)日: 2021-01-01
发明(设计)人: 戴一帆;彭小强;胡皓;关朝亮 申请(专利权)人: 中国人民解放军国防科技大学
主分类号: B24B1/00 分类号: B24B1/00
代理公司: 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 代理人: 谭武艺
地址: 410073 湖南*** 国省代码: 湖南;43
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 石英 激光 光学 元件 精密 加工 方法
【说明书】:

发明涉及强激光光学元件加工技术,针对现有技术加工周期长、效率低、加工精度不确定的问题,提供一种“超精密磨削→磁流变快速抛光→酸洗”为核心的熔石英强激光光学元件短流程低损伤高精度的超精密加工方法,实施步骤包括:对熔石英元件进行超精密磨削;对超精密磨削后的熔石英元件进行磁流变抛光修形;对磁流变快速抛光后的熔石英元件进行动态酸蚀刻,清洗并烘干;终检,完成对熔石英强激光光学元件的检验。本发明工艺流程简单、可操作性强、加工周期短,保证熔石英强激光元件表面精度的同时,实现了元件表面/亚表面低损伤,具有优良的抗激光损伤性能。

技术领域

本发明涉及强激光光学元件加工技术,具体涉及一种熔石英强激光光学元件超精密加工方法,实现熔石英元件短流程低损伤加工。

背景技术

强激光光学元件一般是指需要经受高能或高功率激光辐照的光学元件,具有高精度和高抗辐照损伤的特性。受高功率激光装置应用需求的驱动,强激光光学元件的超精密加工需求在不断增加。熔石英是高功率激光装置中应用最普遍的光学材料,具有化学性能稳定、透光性好、耐高温、耐辐射和抗激光损伤能力强等特点,被广泛应用于制备透镜、窗口和屏蔽片等强激光光学元件。随着强激光光学元件制造水平的不断发展,对石英玻璃的表面/亚表面质量要求也越来越高。

石英玻璃的硬度高、脆性大,属于典型的硬脆难加工材料。目前,熔石英强激光光学元件的典型加工流程遵循“磨削→研磨→抛光→酸洗”的工艺路线。然而,由于加工工艺过程的工序多,需要反复安装加工工具或者工件,不仅增加了成形加工的辅助时间,而且带来了较大的安装误差,大大降低了加工效率和制造精度。例如,传统的磨削难以控制加工的缺陷深度,光学元件表面成形精度低。研磨存在工人技术依赖性强、元件亚表面机械破碎缺陷多等问题。而在抛光中,抛光盘不可预测磨损、不可知匹配,抛光液成分浓度的变化以及抛光环境对表面完整性破坏的可能性较大,也表现出周期长、效率低、加工精度不确定以及加工结果不可预测的特点。不仅如此,研抛过程中反复交替的加工与检测工艺过程也会增加工件的加工周期。传统加工工艺难以满足强光光学元件制造的使用需求,因此需要通过改进各个工艺阶段,进一步合理优化强激光光学元件加工工艺路线。

发明内容

本发明要解决的技术问题:针对现有技术加工周期长、效率低、加工精度不确定的问题,提供一种“超精密磨削→磁流变快速抛光→酸洗”为核心的熔石英强激光光学元件短流程低损伤高精度的超精密加工方法,本发明为能满足熔石英强激光光学元件的高效高精度加工,引入超精密磨削和磁流变快速抛光两种新技术,省去研磨工序有效缩短元件加工周期,提高加工效率,在去除表面/亚表面破碎性缺陷的同时,能获得高精度的元件表面面形和表面粗糙度,具有工艺流程简单、可操作性强的优点。

为了解决上述技术问题,本发明采用的技术方案为一种“超精密磨削→磁流变抛光修形→酸洗”为核心的熔石英强激光光学元件短流程低损伤高精度的超精密加工方法:

一种熔石英强激光光学元件超精密加工方法,实施步骤包括:

1)对熔石英元件进行超精密磨削;

2)对超精密磨削后的熔石英元件进行磁流变抛光修形;

3)对磁流变快速抛光后的熔石英元件进行动态酸蚀刻,清洗并烘干;

4)对熔石英元件进行检验。

可选地,步骤1)中对熔石英元件进行超精密磨削时,采用工件自旋转磨削方式。

可选地,步骤1)中对熔石英元件进行超精密磨削的步骤包括:首先采用500#树脂基金刚石砂轮磨削进行多次磨削使得整个熔石英元件表面得到充分磨削;然后采用2000#树脂基金刚石砂轮磨削进行多次磨削,以实现指定的去除量。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国人民解放军国防科技大学,未经中国人民解放军国防科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011043621.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top