[发明专利]一种窄线宽激光器及其制作方法有效
申请号: | 202011046349.0 | 申请日: | 2020-09-29 |
公开(公告)号: | CN112152078B | 公开(公告)日: | 2021-08-03 |
发明(设计)人: | 鲜青云;王任凡;吕辉;姚育成 | 申请(专利权)人: | 武汉敏芯半导体股份有限公司 |
主分类号: | H01S5/06 | 分类号: | H01S5/06;H01S5/065;H01S5/22 |
代理公司: | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人: | 许美红 |
地址: | 430014 湖北省武汉市东湖新技术开发区金融港*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 窄线宽 激光器 及其 制作方法 | ||
1.一种窄线宽激光器,其特征在于,该激光器为脊波导结构,脊波导的两侧均设有光吸收层,光吸收层包括多个等间隔排布的光吸收条;该光吸收层吸收特定波长的光。
2.根据权利要求1所述的窄线宽激光器,其特征在于,光吸收条的间隔周期d1为:
式中,n表示模式的数值,n为奇数,λ表示自由空间波长,neff,ave表示波导的平均有效折射率。
3.根据权利要求1所述的窄线宽激光器,其特征在于,光吸收层到有源层的距离使得光吸收层对特定波长的光的吸收效率最大。
4.根据权利要求1所述的窄线宽激光器,其特征在于,光吸收条是由具有光吸收作用的材料制成,材料具体为金、铂、铝、二氧化钛、二硫化钼或钙钛矿。
5.根据权利要求1所述的窄线宽激光器,其特征在于,该激光器从下到上依次包括n面电极层、衬底层、下包层、下光限制层、有源层、上光限制层、上包层和P面电极层。
6.一种窄线宽激光器的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:
制作出脊波导结构;
在脊波导的两侧制作出光吸收层,光吸收层包括多个等间隔排布的光吸收条,该光吸收层吸收特定波长的光。
7.根据权利要求6所述的窄线宽激光器的制作方法,其特征在于,还包括步骤:调整光吸收层到有源层的距离,提高光吸收层对特定波长的光的吸收效率。
8.根据权利要求6所述的窄线宽激光器的制作方法,其特征在于,光吸收条为金属条,在脊波导的两侧制作出多个等间隔排布的金属条具体包括:
在脊波导的两侧涂光刻胶,利用设计好的掩模版进行光刻,光刻之后进行显影去胶,去掉金属条区域的光刻胶;
采用蒸发镀金的方式,在脊波导的两侧形成金属层;
再进行去胶,将未显影区域的光刻胶上覆盖的金属去掉,形成多个等间隔排布的金属条。
9.根据权利要求6所述的窄线宽激光器的制作方法,其特征在于,该方法还包括步骤:在衬底上依次生长下包层、下光限制层、有源层、上光限制层和上包层。
10.根据权利要求9所述的窄线宽激光器的制作方法,其特征在于,刻蚀上包层,制作出脊波导结构。
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