[发明专利]多功能高分子基清洁表面防滑技术的开发及应用

权利要求书

1.一种含有高分子基防滑薄膜的瓷砖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)高分子基防滑液配置：预聚高分子15-30份、乳化剂5-10份、光敏引发剂0.1-1份，氢化二氧化钛5-10份，碳酸钠1-5份和去离子水50份～100份，份数均指质量比例；

(2)将所述高分子基防滑液均匀涂覆在瓷砖基体表面，所述高分子基防滑液用量为30-50mL/m² ，紫外光照射5min；

(3)纯净水冲洗，自然晾干,形成透光多孔的高分子防滑薄膜；

所述瓷砖基体在涂覆高分子基防滑液之前，还经过以下处理：

(1)配置前处理溶液：氟化钾5份～20份、柠檬酸10-30份、硬脂酸钙1份～10份、表面活性剂1份～5份、聚乙烯醇0.1份～1份、去离子水50份～100份，份数均指质量比例；

(2)前处理溶液均匀涂覆制瓷砖基体表面，所述前处理溶液的用量为50-80 mL/m² ，静置等待30min；

(3)纯净水冲洗。

2.一种如权利要求1所述的制备方法制备的含有高分子基防滑薄膜的瓷砖。

3.如权利要求2所述的含有高分子基防滑薄膜的瓷砖，其特征在于，经过瓷砖的前处理清洁过程以及后续的高分子薄膜原位铺设过程，所加工的瓷砖表面在水/油润湿条件下具有显著的防滑特性。

4.如权利要求2所述的含有高分子基防滑薄膜的瓷砖，其特征在于，经过瓷砖的前处理清洁过程以及后续的高分子薄膜原位铺设过程，所加工的瓷砖表面具有超亲水自清洁效果。

5.如权利要求2所述的含有高分子基防滑薄膜的瓷砖，其特征在于，经过瓷砖的前处理清洁过程以及后续的高分子薄膜原位铺设过程，所加工的瓷砖表面在可见光照射下具有降解室内甲醛污染物的性能。

6.如权利要求3所述的含有高分子基防滑薄膜的瓷砖，其特征在于，所加工的瓷砖表面摩擦系数均高于0.62，高于国家安全标准，所述国家安全标准为0.50。

7.如权利要求4所述的含有高分子基防滑薄膜的瓷砖，其特征在于，所加工的瓷砖表面对水、乙醇接触角均小于5°，对植物油、汽油均大于90°。

8.一种如权利要求2所述的含有高分子基防滑薄膜的瓷砖在降解室内甲醛污染物中的应用，其特征在于，1平米加工瓷砖，AM 1.5模拟太阳光照射10小时，可将2立方米甲醛含量高达0.5毫克/立方米的室内污染空气降解至符合国家标准的清洁空气，所述国家标准的清洁空气的甲醛含量≤0.09毫克/立方米。