[发明专利]一种氟氧头孢工艺杂质及其制备方法

权利要求书

1.一种氟氧头孢钠的工艺杂质，其特征在于其化学结构如下：

其中M为氢、铵根离子或金属离子。

2.根据权利要求1所述的工艺杂质，其特征在于：M为钠离子、钾离子。

3.根据权利要求1所述氟氧头孢钠的工艺杂质的制备方法，其特征在于：所述的杂质按如下步骤制备：

1)以氟氧头孢钠中间体(6R,7R)-3-(氯甲基)-7-氨基-7-甲氧基-8-氧代-5-氧杂-1-氮杂双环[4.2.0]辛-2-烯-2-羧酸二苯甲基酯和甲硫基乙酸为起始原料，三氯氧磷作为氯代试剂，合成得到目标杂质中间体1，化学名为(6R,7R)-7-[2-甲基硫基]乙酰胺基]-3-氯甲基-7-甲氧基-8-氧代-5-氧杂-1-氮杂二环[4.2.0]辛-2-烯-2-羧酸二苯甲基酯；

2)目标杂质中间体1再与侧链1-羟乙基-5-巯基-1H-四氮唑钠盐脱一分子氯化氢缩合得到目标杂质中间体2，化学名为(6R,7R)-7-[2-甲基硫基]乙酰胺基]-3-[[[1-(2-羟基乙基)-1H-四唑-5-基]硫基]-甲基]-7-甲氧基-8-氧代-5-氧杂-1-氮杂二环[4.2.0]辛-2-烯-2-羧酸二苯甲基酯；

3)目标杂质中间体2在吡啶碱性条件下首先与三甲基氯硅烷反应保护羟基，再在低温条件下滴加四氯化钛脱二苯甲基保护基，得到目标杂质(6R,7R)-7-(2-甲基硫基)乙酰氨基)-3-(((1-(2-羟乙基)-1H-四唑-5-基)硫)甲基)-7-甲氧基-8-氧代-5-氧杂-1-氮杂双环[4.2.0]辛-2-烯-2-甲酸。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于：步骤1)中反应溶剂为二氯甲烷，反应液温度需控制在-40℃以下加入三氯氧磷，反应温度控制在-10～-30℃。

5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于：步骤2)中反应溶剂为二氯甲烷，反应液温度需控制在15～30℃，反应体系pH控制5.0～7.0。

6.权利要求3所述的方法，其特征在于步骤3)中反应溶剂为乙酸乙酯，滴加四氯化钛反应液温度需控制在-50℃以下，减压浓缩温度需控制在20～40℃。