[发明专利]一种插损线性变化的带通滤光片的制备方法

说明书

本发明提供一种插损线性变化的带通滤光片的制备方法，包括：切割基层成型；镀前对基层进行超声波清洗；进行膜系设计；其中，膜系设计中堆叠在基层上的膜系的膜系结构包括若干个法布里‑帕罗腔及连接层，每个法布里‑帕罗腔通过连接层级联下一个法布里‑帕罗腔，连接层为非四分之一波长的光学厚度的低折射率层；根据膜系设计对每一膜层进行膜层厚度控制并镀膜；对镀制好的带通滤光片进行测试得到合格的带通滤光片。本发明能够制备插损线性变化的带通滤光片，该带通滤光片具备常规的滤光功能以外，该带通滤光片的通带插损或透过率具有线性变化，在通带内实现了在特定的波长范围内插损随波长是线性变化的，在特定的波长范围内实现波长识别的功能。

技术领域

本发明涉及光学技术领域，具体涉及一种插损线性变化的带通滤光片的制备方法。

背景技术

带通滤光片(Bandpass Filters)只可以使某个特定波长或窄波段的光透过，通带之外的光不能够透过。带通滤光片光学指标主要是：中心波长(CWL)、半带宽(FWHM)。根据带宽大小分为：带宽＜30nm为窄带滤光片；带宽＞60nm以上的为宽带滤光片。

带通滤光片通常应用于干涉仪，成像仪器，检测仪器，数据中心，光通讯、工业激光及波长识别等领域。

目前用于波长识别的器件有光栅器件以及带通滤光片组合器件等。而带通滤光片通常应用于分光等使用方向，通常要求带通滤光片的通带插损或透过率要尽可能的平坦，纹波要小，由于带通滤波片的特点导致带通滤波片很难实现插损随波长线性变化，现有技术中还没有带通滤光片在通带内可实现插损随波长是线性变化的。

发明内容

针对现有技术的不足之处，本发明的目的在于提供一种插损线性变化的带通滤光片的制备方法。

本发明的技术方案概述如下：

本发明提供一种插损线性变化的带通滤光片的制备方法，切割基层成型；其中基层采用折射率在1304.5-1317nm的范围为1.45至3.5的材料；

镀前对基层进行超声波清洗；

根据带通滤光片的目标性能进行膜系设计；其中，所述膜系设计中堆叠在所述基层上的膜系的膜系结构包括若干个法布里-帕罗腔及连接层，每个所述法布里-帕罗腔包括高折射率膜层和低折射率膜层交替堆叠；每个所述法布里-帕罗腔通过连接层级联下一个所述法布里-帕罗腔，所述连接层为非四分之一波长的光学厚度的低折射率层；

根据膜系设计对每一膜层进行膜层厚度控制并镀膜；

对镀制好的带通滤光片进行测试，得到合格的带通滤光片。

进一步地，所述法布里-帕罗腔的结构为：aHLHL4HLHLH、bHLHLHLHL4HLHL3HLHLH、cHLHLHL4HLHLHLH、dHLHL4HLHLA，其中，dHLHL4HLHLA为最后一层法布里-帕罗腔；

H为四分之一中心波长光学厚度的高折射率层，L为四分之一中心波长光学厚度的低折射率层；4H为四个四分之一中心波长光学厚度，A为非四分之一光学厚度的高折射率层；a、b、c、d为每个所述法布里-帕罗腔的第一个高折射率层的四分之一中心波长光学厚度的系数。

进一步地，所述连接层的光学厚度为0.675-2.451中的非整数个四分之一波长的光学厚度。

进一步地，所述法布里-帕罗腔的第一个高折射率层的四分之一中心波长光学厚度的系数通过上一个所述法布里-帕罗腔的最后一层的光学厚度通过软件优化得出。

进一步地，所述a、b、c、d为0.974-1.015，所述法布里-帕罗腔的第一个高折射率层的四分之一中心波长光学厚度为0.974-1.015个四分之一波长的光学厚度，以使此层结束时的透过率达到极值。

进一步地，所述法布里-帕罗腔的数量为9个。