[发明专利]一种透过率线性变化的滤光片的制备方法

权利要求书

1.一种透过率线性变化的滤光片的制备方法，其特征在于，包括：

准备：对未镀膜的空白基层或晶圆进行超声波清洗；

镀膜：包括膜系设计、根据膜系设计对每一层薄膜进行膜层厚度控制、进镀膜机进行薄膜沉积；

其中，所述膜系设计的步骤中，使用折射率在1550nm的范围为1.45至3.5的材料作为基层，堆叠在所述基层上的膜系的膜系结构包括八至二十个法布里-帕罗腔，所述法布里-帕罗腔的最后一层作为连接层级联下一个所述法布里-帕罗腔；每个所述法布里-帕罗腔的最后一层为非四分之一光学厚度的折射率层；

所述法布里-帕罗腔的膜系结构为：(HL)^m aH(LH)^m B或者(HL)^m aH(LH)^m BAB；其中，(HL)^m aH(LH)^m BAB为最后一层的法布里-帕罗腔的膜系结构；

其中，H为四分之一中心波长光学厚度的高折射率层，L为四分之一中心波长光学厚度的低折射率层；m为HL和LH的序列重复交替堆叠的组数，a为四分之一中心波长光学厚度系数，a为整数，B为非四分之一光学厚度的低折射率层，A为非四分之一光学厚度的高折射率层；

所述法布里-帕罗腔的第一层的光学厚度通过上一个所述法布里-帕罗腔的最后一层的光学厚度优化得出；

切割：镀膜完成后切割成滤光片尺寸；

检测：检测切割后的滤光片，以得到合格滤光片。

2.如权利要求1的透过率线性变化的滤光片的制备方法，其特征在于，所述膜系设计，还包括：所述每个所述法布里-帕罗腔的第一层的光学厚度通过所述连接层的光学厚度优化得出，所述法布里-帕罗腔的第一层的光学厚度为0.975至1.025个四分之一波长的光学厚度，以使此层结束时的透过率达到极值；

所述根据膜系设计对每一层薄膜进行膜层厚度控制，包括：所述每个所述法布里-帕罗腔的第一层在镀膜监控中采用极值法监控，以便接下来的每一层四分之一波长的光学厚度的膜层都采用极值法监控。

3.如权利要求1的透过率线性变化的滤光片的制备方法，其特征在于，所述根据膜系设计对每一层薄膜进行膜层厚度控制，还包括：所述连接层采用晶控/时间的控制方法进行监控。

4.如权利要求1的透过率线性变化的滤光片的制备方法，其特征在于，所述法布里-帕罗腔的数量为11至20个。

5.如权利要求1的透过率线性变化的滤光片的制备方法，其特征在于，所述非四分之一光学厚度的低折射率层B的光学厚度为0.371-2.605个四分之一波长的光学厚度。

6.如权利要求1的透过率线性变化的滤光片的制备方法，其特征在于，所述高折射率层的材料为Ta2O5、Nb2O5、TiO2中的至少之一，所述高折射率层的折射率在1550nm的范围为1.85至2.5。

7.如权利要求1的透过率线性变化的滤光片的制备方法，其特征在于，所述低折射率层的材料为SiO2、Al2O3、MgF2中的至少之一，所述低折射率层的折射率在1550nm的范围为1.38至1.6。

8.如权利要求1的透过率线性变化的滤光片的制备方法，其特征在于，所述检测切割后的滤光片，以得到合格滤光片，包括：所述合格滤光片为在1520-1570nm波段范围内的透过率以一定斜率从90％递减至10％；或检测制备的滤光片在入射角度为0-45度下，波长的透过率随波长线性地递增或递减。

9.如权利要求1的透过率线性变化的滤光片的制备方法，其特征在于，所述准备的步骤，包括：超声波的功率为600W-900W,清洗药剂为RS-26，频率值的设定为28KHZ-40KHZ。