[发明专利]有机发光显示面板、制备有机发光显示面板的方法及显示装置有效
申请号: | 202011053111.0 | 申请日: | 2020-09-29 |
公开(公告)号: | CN112164763B | 公开(公告)日: | 2023-05-26 |
发明(设计)人: | 刘明;孟秋华;韩林倩 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H10K50/858 | 分类号: | H10K50/858;H10K50/86;H10K71/00;H10K59/38 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 欧阳高凤 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 有机 发光 显示 面板 制备 方法 显示装置 | ||
1.一种有机发光显示面板,其特征在于,包括:
基板,所述基板上具有多个有机发光二极管;
像素定义层,所述像素定义层在所述基板上限定出多个子像素区域;
金属层,所述金属层位于所述像素定义层远离所述基板的一侧;
抗反射层,所述抗反射层位于所述金属层远离所述像素定义层的一侧,所述金属层在所述基板上的正投影位于所述抗反射层在所述基板上的正投影的所在范围之内;
发光层,所述发光层位于所述抗反射层远离所述金属层的一侧;
阴极,所述阴极位于所述发光层远离所述抗反射层的一侧,所述阴极与所述金属层搭接;
其中,所述金属层的面积小于所述抗反射层的面积,且在所述金属层和所述抗反射层之间形成内缩结构,所述阴极在所述金属层的所述内缩结构处形成连续膜层,所述阴极与所述金属层搭接。
2.根据权利要求1所述的有机发光显示面板,其特征在于,所述发光层覆盖所述抗反射层的表面、所述像素定义层的侧壁以及所述子像素区域。
3.根据权利要求1所述的有机发光显示面板,其特征在于,形成所述抗反射层的材料的折射率为2~3,形成所述抗反射层的材料的消光系数为0~1,形成所述金属层的材料为金属。
4.根据权利要求3所述的有机发光显示面板,其特征在于,形成所述金属层的材料包括钼和铝中的至少之一。
5.根据权利要求3所述的有机发光显示面板,其特征在于,形成所述抗反射层的材料包括氧化钼、氧化铌以及氧化铜中的至少之一。
6.根据权利要求1所述的有机发光显示面板,其特征在于,所述金属层在所述基板上的正投影的边缘与所述抗反射层在所述基板上的正投影的边缘的之间的最小距离为0.5-1.5微米。
7.根据权利要求1-6任一项所述的有机发光显示面板,其特征在于,所述有机发光显示面板上进一步包括封装结构以及色阻结构,所述色阻结构位于所述封装结构远离所述基板的一侧,所述色阻结构包括黑矩阵以及色阻块。
8.一种制备权利要求1-7任一项所述的有机发光显示面板的方法,其特征在于,包括:
在基板的一侧形成像素定义层;
在所述像素定义层远离所述基板的一侧形成金属层;
在所述金属层远离所述像素定义层的一侧形成抗反射层;
在所述抗反射层远离所述金属层的一侧形成发光层;
在所述发光层远离所述抗反射层的一侧形成阴极。
9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,该方法进一步包括:在形成所述抗反射层之后采用刻蚀气体对所述金属层进行刻蚀,以令所述金属层在所述基板上的正投影位于所述抗反射层在所述基板上的正投影的所在范围之内。
10.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,所述刻蚀气体为氯气。
11.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,所述刻蚀气体为六氟化硫和氧气。
12.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1-7任一项所述的有机发光显示面板。
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