[发明专利]一种三银低辐射镀膜玻璃及其制备方法

权利要求书

1.一种三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，包括玻璃基层和镀膜于所述玻璃基层上的12个膜层，所述12个膜层从下至上依次为：第一层氧化锌层、第二层银层、第三层氧化锌铝层、第四层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层、第五层银层、第六层铜层、第七层镍铬合金层、第八层氧化锌铝层、第九层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层、第十层银层、第十一层氧化锌铝层和第十二层氮化硅层。

2.根据权利要求1所述的三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一层氧化锌层的厚度为30nm～40nm。

3.根据权利要求1所述的三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第二层银层的厚度为8nm～11nm，所述第五层银层的厚度为7nm～11nm，所述第十层银层的厚度为13nm～19nm。

4.根据权利要求1所述的三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第三层氧化锌铝层、第八层氧化锌铝层和第十一层氧化锌铝层的厚度为4nm～6nm。

5.根据权利要求1所述的三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第四层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层的厚度为60nm～72nm，所述第九层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层的厚度为73nm～85nm。

6.根据权利要求1所述的三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第六层铜层的厚度为6nm～9nm。

7.根据权利要求1所述的三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第七层镍铬合金层的厚度为1nm～4nm。

8.根据权利要求1所述的三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第十二层氮化硅层的厚度为30nm～40nm。

9.根据权利要求1所述的三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述12层镀膜层的总厚度为260nm～309nm。

10.一种如权利要求1～9任一项所述的三银低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，包括：

利用磁控溅射在所述玻璃基层上镀制第一层氧化锌层；

利用磁控溅射在所述第一层氧化锌层上镀制第二层银层；

利用磁控溅射在所述第二层银层上镀制第三层氧化锌铝层；

利用磁控溅射在所述第三层氧化锌铝层上镀制第四层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层；

利用磁控溅射在所述第四层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层上镀制第五层银层；

利用磁控溅射在所述第五层银层上镀制第六层铜层；

利用磁控溅射在所述第六层铜层上镀制第七层镍铬合金层；

利用磁控溅射在所述第七层镍铬合金层上镀制第八层氧化锌铝层；

利用磁控溅射在所述第八层氧化锌铝层上镀制第九层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层；

利用磁控溅射在所述第九层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层上镀制第十层银层；

利用磁控溅射在所述第十层银层上镀制第十一层氧化锌铝层；

利用磁控溅射在所述第十一层氧化锌铝层上镀制第十二层氮化硅层。