[发明专利]增亮膜在审
申请号: | 202011057551.3 | 申请日: | 2020-09-30 |
公开(公告)号: | CN114335375A | 公开(公告)日: | 2022-04-12 |
发明(设计)人: | 王冠楠;徐铖;费文娟;张瑾 | 申请(专利权)人: | 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52 |
代理公司: | 上海波拓知识产权代理有限公司 31264 | 代理人: | 周景 |
地址: | 215123 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 增亮膜 | ||
1.一种增亮膜,其特征在于包括相对设置的第一表面和第二表面,该第一表面之内或之上设置有微纳结构层,该微纳结构层包括第一微纳结构区以及绕着该第一微纳结构区周向设置的第二微纳结构区,该第一微纳结构区包括多个第一微纳结构,各该第一微纳结构包括多个第一斜面,各该第一斜面与该第二表面之间具有第一倾斜锐角,该第二微纳结构区包括多个第二微纳结构,各该第二微纳结构包括多个第二斜面,各该第二斜面与该第二表面之间具有第二倾斜锐角,该第二倾斜锐角与该第一倾斜锐角角度不同,使得该第二微纳结构区的出光率大于该第一微纳结构区的出光率。
2.如权利要求1所述的增亮膜,其特征在于,该第一微纳结构区内的多个该第一倾斜锐角大小不同;该第二微纳结构区内的多个该第二倾斜锐角大小不同;多个该第一微纳结构之间紧密排布或按设定规律排布;多个该第二微结构之间紧密排布或按设定规律排布。
3.如权利要求1所述的增亮膜,其特征在于,该第一微纳结构区内的多个该第一倾斜锐角大小相同;该第二微纳结构区内的多个该第二倾斜锐角大小相同;该第一微纳结构区对应发光点的中心区域设置,该第二微纳结构区对应发光点的边缘区域设置。
4.如权利要求1所述的增亮膜,其特征在于,该增亮膜的第一表面凹陷形成有多个凹孔,该第一微纳结构区的该第一微纳结构具有一个该凹孔,该第二微纳结构区的该第二微纳结构具有一个该凹孔,该第一倾斜锐角与该第一微纳结构区的孔径呈反比,与该第一微纳结构的深度呈正比;该第二倾斜锐角与该第二微纳结构的孔径呈反比,与该第二微纳结构的深度呈正比;该第一倾斜锐角范围为35°~60°;该第二倾斜锐角范围为35°~60°。
5.如权利要求1所述的增亮膜,其特征在于,该增亮膜的材质包括PET、PMMA、热固化树脂、光固化树脂。
6.如权利要求1所述的增亮膜,其特征在于,该增亮膜的第一表面凹陷形成有多个凹孔,该第一微纳结构区的该第一微纳结构具有一个该凹孔,该第二微纳结构区的该第二微纳结构具有一个该凹孔,各该第一微纳结构的深度与各该第二微纳结构的深度相同,该第一微纳结构区的孔径与该第二微纳结构区的孔径不同。
7.如权利要求1所述的增亮膜,其特征在于,该增亮膜的第一表面凹陷形成有多个凹孔,该第一微纳结构区的该第一微纳结构具有一个该凹孔,该第二微纳结构区的该第二微纳结构具有一个该凹孔,该第一微纳结构区的孔径与该第二微纳结构区的孔径相同,各该第一微纳结构的深度与各该第二微纳结构的深度不同。
8.如权利要求6或7所述的增亮膜,其特征在于,各该第一微纳结构的深度范围为10μm~50μm,各该第二微纳结构的深度范围为10μm~50μm;各该第一微纳结构的孔径范围为10μm~120μm;各该第二微纳结构区的孔径范围为10μm~120μm。
9.如权利要求1所述的增亮膜,其特征在于,该增亮膜还包括基底,该基底的材料包括PET、PMMA、玻璃,该基底的光学特性满足在波长380~780纳米的可见光的透过率在80%以上。
10.如权利要求1所述的增亮膜,其特征在于,该第一微纳结构和该第二微纳结构的形状包括金字塔型、棱锥体、棱台、四面体、球台、圆锥体中的一种或至少两种的组合。
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