[发明专利]一种条形中红外波导结构在审
| 申请号： | 202011059619.1 | 申请日： | 2020-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN112099137A | 公开（公告）日： | 2020-12-18 |
| 发明（设计）人： | 冯松;冯露露;胡祥建;薛斌;李连碧 | 申请（专利权）人： | 西安工程大学 |
| 主分类号： | G02B6/122 | 分类号： | G02B6/122;G02B6/10 |
| 代理公司： | 西安弘理专利事务所 61214 | 代理人： | 张皎 |
| 地址： | 710048 陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 条形 红外 波导 结构 | ||
【权利要求书】：
1.一种条形中红外波导结构，其特征在于，包括Si衬底层(1)，Si衬底层(1)的顶部设置有相互间隔的条形SiO2埋氧层(2)，条形SiO2埋氧层(2)顶部中间位置处设置有条形Si波导层(3)，条形Si波导层(3)与条形SiO2埋氧层(2)均垂直设置。
2.根据权利要求1所述的一种条形中红外波导结构，其特征在于，所述Si衬底层(1)掺杂浓度为1×1013cm-3～1×1015cm-3，掺杂剂为P离子。
3.根据权利要求1所述的一种条形中红外波导结构，其特征在于，所述Si衬底层(1)厚度为100μm～300μm，宽度为100μm～1000μm。
4.根据权利要求1所述的一种条形中红外波导结构，其特征在于，所述条形SiO2埋氧层(2)厚度为0.5μm～1μm，宽度为100μm～1000μm，深度为1μm～5μm，深度方向上间隔距离为10μm～30μm。
5.根据权利要求1所述的一种条形中红外波导结构，其特征在于，所述条形Si波导层(3)掺杂浓度为1×1013cm-3～1×1015cm-3，掺杂剂为P离子。
6.根据权利要求1所述的一种条形中红外波导结构，其特征在于，所述条形Si波导层(3)高度为0.22μm～0.5μm，宽度为0.5μm～5μm。
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