[发明专利]一种高载流子浓度炭膜材料的制备方法有效
| 申请号： | 202011062248.2 | 申请日： | 2020-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN112267100B | 公开（公告）日： | 2022-11-18 |
| 发明（设计）人： | 赵志鹏;卢璐;邓晗;徐洪峰 | 申请（专利权）人： | 大连交通大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/06;C23C14/54;C23C16/26 |
| 代理公司： | 大连东方专利代理有限责任公司 21212 | 代理人： | 周莹;李馨 |
| 地址： | 116028 辽宁*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 载流子 浓度 材料 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种高载流子浓度炭膜材料的制备方法，其特征在于：所述方法在基片表面利用直流脉冲磁控溅射方法制备高载流子浓度炭膜材料；所述直流脉冲磁控溅射的工作气体为氩气和碳氢气体；所述氩气的流量为10-20sccm，所述碳氢气体的流量为0-20sccm；所述直流脉冲磁控溅射的功率密度为1.0-5.5W/cm2。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述直流脉冲磁控溅射以高纯碳靶为靶材，碳靶的纯度为99.99％。
3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述直流脉冲磁控溅射的温度为自然室温。
4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述直流脉冲磁控溅射的工作频率为40kHz-400kHz，占空比为10％-40％，工作气压为0.4-2.0Pa。
5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述氩的纯度为99.99％，所述碳氢气体的纯度为99.99％。
6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述基片为载玻片、石英片、金属片。
7.一种炭膜，其特征在于，所述炭膜由权利要求1所述方法制备得到，所述炭膜厚度为30-300nm。
8.根据权利要求7所述的炭膜，其特征在于，所述炭膜的载流子浓度大于1.0×1016cm-3。
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