[发明专利]一种具备阴离子开关作用的仿生自组装膜的制备方法和应用在审
申请号: | 202011064994.5 | 申请日: | 2020-09-30 |
公开(公告)号: | CN112255302A | 公开(公告)日: | 2021-01-22 |
发明(设计)人: | 黄曦明 | 申请(专利权)人: | 邵阳学院 |
主分类号: | G01N27/49 | 分类号: | G01N27/49;G01N27/416;B24B1/00 |
代理公司: | 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 | 代理人: | 郭立中 |
地址: | 422000 *** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 具备 阴离子 开关 作用 仿生 组装 制备 方法 应用 | ||
1.一种具备阴离子开关作用的仿生自组装膜的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
A、将基底进行预处理,得到表面洁净的基底;
B、将步骤A处理后的基底活化后浸没在烷基硫醇溶液中,进行反应,洗涤,得
到烷基硫醇组装的基底;
C、将步骤B中烷基硫醇组装的基底浸泡在同时含氨基和羧基的有机化合物溶液中,进行反应,洗涤,得到具备阴离子开关作用的仿生自组装膜,液封备用;
所述基底材质为金。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述预处理为采用不同粒径的氧化铝粉末对基底进行抛光打磨,超声波清洗;优选的,所述不同粒径的氧化铝粉末依次为粒径1.0微米、0.5微米、0.05微米,每次打磨抛光时间为30-40min。
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤B中的活化为将抛光打磨后的基底置于稀硫酸溶液中,采用循环伏安法进行氧化还原活化。
4.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,所述稀硫酸溶液浓度为0.1-0.5摩尔每升,所述氧化还原活化处理20-30个循环。
5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤B中的烷基硫醇溶液为1-十一烷基硫醇的乙醇溶液。
6.根据权利要求5所述的制备方法,其特征在于,所述1-十一烷基硫醇的浓度为0.1-0.2摩尔每升,反应时间为15-20分钟。
7.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤C中的同时含氨基和羧基的有机化合物溶液为头基为巯基,末端含有氨基和羧基且碳链长度小于6的有机化合物水溶液。
8.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述头基为巯基,末端含有氨基和羧基且碳链长度小于6的有机化合物为2-氨基-3-巯基丙酸或2-氨基-4巯基丁酸。
9.根据权利要求8所述的制备方法,其特征在于,所述2-氨基-3-巯基丙酸的浓度为0.5-1.0摩尔每升,反应时间为40-48小时。
10.如权利要求1-9任一项所述的制备方法制备的具备阴离子开关作用的仿生自组装膜在阴离子的超灵敏传感或分子识别领域的应用。
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