[发明专利]一种高速激光均匀雕刻的方法

权利要求书

1.一种高速激光均匀雕刻的方法，其特征在于，该方法包括如下步骤：

步骤1，确认雕刻路径，准备有雕刻载体，在载体上确认雕刻区域，并在雕刻区域内设置有复数条雕刻路径；

步骤2，正向激光雕刻，采用激光雕刻装置沿一条雕刻路径首端开始，进行匀速的激光雕刻至该雕刻路径尾端，激光雕刻装置至该雕刻路径的尾端的时候在载体的雕刻区域外继续运动至另一条雕刻路径的尾端；

步骤3，反向激光雕刻，激光雕刻装置沿另一条雕刻路径的尾端开始，进行匀速的激光雕刻至该雕刻路径首端，激光雕刻装置至该雕刻路径的首端的时候在载体的雕刻区域外继续运动至下一条雕刻路径的首端；

步骤4，雕刻完成，激光雕刻装置从下一条雕刻路径的首端开始，按照步骤2和步骤3中的正向激光雕刻和反向激光雕刻的激光雕刻方式，依次激光雕刻其余的雕刻路径，直至雕刻区域内所有的雕刻路径全部激光雕刻完成。

2.根据权利要求1所述的一种高速激光均匀雕刻的方法，其特征在于，在步骤2中，激光雕刻装置至该雕刻路径的尾端的时候在载体的雕刻区域外做弧形运动至另一条雕刻路径的尾端。

3.根据权利要求2所述的一种高速激光均匀雕刻的方法，其特征在于，激光雕刻装置在载体的雕刻区域外做弧形运动时，为匀速运动。

4.根据权利要求3所述的一种高速激光均匀雕刻的方法，其特征在于，在步骤3中，激光雕刻装置至该雕刻路径的首端的时候在载体的雕刻区域外做弧形运动至下一条雕刻路径的首端。

5.根据权利要求4所述的一种高速激光均匀雕刻的方法，其特征在于，激光雕刻装置在载体的雕刻区域外做弧形运动时，为匀速运动。

6.根据权利要求1所述的一种高速激光均匀雕刻的方法，其特征在于，在步骤1中，雕刻区域均分为上雕刻区域和下雕刻区域，复数条雕刻路径平均分布在上雕刻区域和下雕刻区域内；且所述雕刻区域在进行激光雕刻时，采用激光雕刻装置交替雕刻上雕刻区域内的雕刻路径和下雕刻区域的雕刻路径。

7.根据权利要求6所述的一种高速激光均匀雕刻的方法，其特征在于，所述上雕刻区域的雕刻路径进行激光雕刻时，其顺序为由上至下依次雕刻；所述下雕刻区域的雕刻路径进行激光雕刻时，其顺序为由上至下依次雕刻。