[发明专利]一种指定折射率的ITO制作方法

权利要求书

1.一种指定折射率的ITO制作方法，其特征在于：它包括如下步骤：

步骤S1：用台阶仪测量ITO的厚度d；利用分光光度计测试基板的透过率与反射率；

步骤S2：利用基于VBA的基板光学常数计算方法计算基板的折射率ns和消光系数ks；

步骤S3：利用分光光度计测试ITO的透过率T与反射率R；

步骤S4：计算ITO的折射率n，单层膜的计算方法如下：

（1）建立单层膜折射率n的超越方程：

t11=cos(2*π*n*d/λ)；

t12=sin(2*π*n*d/λ)/n；

t21=sin(2*π*n*d/λ)*n；

t22=cos(2*π*n*d/λ)；

R=((t11*n0-t22*ns)^2+(n0*ns*t12-t21)^2)/((t11*n0+t22*ns)^2+(n0*ns*t12+t21)^2)；

式中λ为光波长，π为圆周率，n0为环境折射率，ns由步骤2计算得出，R由步骤3实测得出；

（2）根据上述超越方程，利用光度法折射率计算方法，对波段内不同波长进行逐点计算，求出波段内每个波长对应的折射率n的解；

（3）引入折射率色散模型，利用折射率色散模型处理（2）中产生的多解，得到波段内每个波长的唯一对应折射率n；

步骤S5：将相邻材料根据实际需要涂抹在基板上，制成测试样品；相邻材料包括液晶或光学胶；

步骤S6：利用分光光度计测量测试样品的反射率光谱Ry；

步骤S7：计算相邻材料折射率ny；计算方法如下：

a．通过界面反射定理计算R0s、Rsy和Ry0，计算公式如下：

R0s=(n0-ns)^2/(n0+ns)^2；

T1=1-R0s；

T2=T1*(1-As)；

Rsy=T2*(ny-ns)^2/(ny+ns)^2+ T3*(ny-ns)^2/(ny+ns)^2+……+ Tn*(ny-ns)^2/(ny+ns)^2；

b．建立相邻材料折射率ny的超越方程并求解：

Ry=R0s+Rsy+Ry0；

式中As是基板的吸收率，As=1-Ts-Rs；

c．根据上述超越方程，利用光度法折射率计算方法，对波段内不同波长进行逐点计算，得出波段内每个波长对应的折射率ny的解；

d．利用折射率色散模型处理c中产生的多解，得到波段内每个波长的唯一对应折射率ny；

步骤S8：调整ITO镀膜工艺，在对应波长下，使n=ny；调整方法如下：

方法一：调整ITO镀膜时的Ar：O2比例，使ITO的折射率变化曲线改变，从而使n=ny；

方法二：调整每个ITO阴极功率配比方式，使ITO的折射率变化曲线改变，从而使n=ny；ITO镀膜采用多个阴极，功率配比方式包括从小到大或从大到小中的一种；

步骤S8所述的ITO镀膜工艺的调整方法包括方法一或方法二中的一种或多种。

2.根据权利要求1所述的一种指定折射率的ITO制作方法，其特征在于：光度法折射率计算方法包括如下步骤：

（1）建立评价函数：

△E=abs（M-M₀）；

（2）设定偏差值N；设置变量x，先对x赋初值，将x带入超越方程求解M₀；

超越方程包括单层膜折射率n的超越方程或相邻材料折射率ny的超越方程；x为对应相应超越方程的单层膜折射率n或相邻材料折射率ny；M₀为对应的n或ny计算出的ITO反射率R₀或计算出的测试样品的反射率光谱Ry₀；

（3）将R₀或Ry₀带入评价函数计算△E；M为仪器测量出的ITO反射率R或测试样品的反射率光谱Ry；

（4）当（△E-N）0时，按x=x*1.005增大x，重新计算△E；当新的△E呈增大趋势时，按比例x=x*（1- △E/1200）缩小x，计算新的△E；；当新的△E呈减小趋势时，继续按x=x*1.005的比例增大x；

（5）重复上述计算，直至（△E-N）0时，程序结束，输出x。

3.根据权利要求1所述的一种指定折射率的ITO制作方法，其特征在于：所述折射率色散模型设置方法如下：

a．建立函数n(λ)=a+c/(λ-b)；

b．带入三个不同波长λ1、λ2、λ3计算得到的n值(λ1) 、n(λ2) 、n(λ3)，解三元方程得到a、b、c的值；得到折射率色散模型。