[发明专利]分布式反馈加反射激光器

权利要求书

1.一种分布式反馈加反射激光器，包括：

分布式反馈区，其被配置成在激射模下操作；

高反射镜，其被耦接至所述分布式反馈区的后部；

无源区，其被耦接至所述分布式反馈区的前部；以及

低反射镜，其形成在所述无源区的前部；

其中，所述无源区、所述分布式反馈区的在所述分布式反馈区的前部处的部分以及所述低反射镜形成具有反射分布的标准具，所述反射分布具有周期性峰和谷，并且其中，所述分布式反馈区的所述激射模对准至所述标准具的所述反射分布的所述周期性峰之一的长波长边缘。

2.根据权利要求1所述的分布式反馈加反射激光器，其中，所述低反射镜具有15％或小于15％的反射率。

3.根据权利要求1所述的分布式反馈加反射激光器，其中，所述低反射镜具有10％或小于10％的反射率。

4.根据权利要求1所述的分布式反馈加反射激光器，其中，所述无源区被配置成向在所述分布式反馈加反射激光器中传播的光给予约20度的相移。

5.根据权利要求1所述的分布式反馈加反射激光器，其中，所述高反射镜具有30％或大于30％的反射率。

6.根据权利要求1所述的分布式反馈加反射激光器，还包括调制触点，所述调制触点耦接至所述分布式反馈区并且被配置成向所述分布式反馈区提供调制信号以调制所述分布式反馈区，其中，对所述分布式反馈区的调制对所述分布式反馈加反射激光器的腔损耗进行调制并且增大所述分布式反馈加反射激光器的载流子-光子谐振频率F_r。

7.根据权利要求1所述的分布式反馈加反射激光器，其中，所述无源区的长度在从100微米至250微米的范围内。

8.根据权利要求1所述的分布式反馈加反射激光器，其中，所述高反射镜包括高反射分布式布拉格反射器镜。

9.根据权利要求1所述的分布式反馈加反射激光器，还包括至少25千兆赫的光子-光子谐振频率。

10.一种分布式反馈加反射激光器，包括：

有源区，其包括分布式反馈光栅并且被配置成在激射模下操作；

无源区，其与所述有源区端对端耦接；

低反射镜，其形成在所述无源区上或所述无源区中；以及

标准具，其包括所述分布式反馈光栅的一部分、所述无源区以及所述低反射镜，

其中，所述有源区的所述激射模对准至所述标准具的反射峰的长波长边缘。