[发明专利]超导磁体结构中的分层线圈区段之间的间隔件的用途在审

专利信息
申请号: 202011074618.4 申请日: 2020-10-09
公开(公告)号: CN112649776A 公开(公告)日: 2021-04-13
发明(设计)人: 武安波;白烨;徐民风;保罗·圣马克·沙福思·汤普森;马克·欧内斯特·韦尔米尔亚;迈克尔·帕里什 申请(专利权)人: 通用电气公司
主分类号: G01R33/565 分类号: G01R33/565;G01R33/34;G01R33/385;G01R33/48;A61B5/055
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 侯颖媖;钱慰民
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 超导 磁体 结构 中的 分层 线圈 区段 之间 间隔 用途
【权利要求书】:

1.一种磁共振(MR)成像系统(10),包括:

MR扫描器(12),所述MR扫描器通信地耦接到控制和分析电路(14),其中所述MR扫描器(12)包括:

多个主线圈绕组(204),所述多个主线圈绕组被配置为沿着所述MR扫描器(12)的磁等中心(206)生成主磁场;

一个或多个屏蔽线圈绕组(202),所述一个或多个屏蔽线圈绕组被配置为生成相对于所述主磁场的屏蔽磁场;

其中所述主线圈绕组(204)或所述屏蔽线圈绕组(202)中的一者或两者中的至少一个线圈绕组包括一个或多个径向间隙,所述一个或多个径向间隙将所述相应线圈绕组划分成至少内部线圈绕组段(301)和外部线圈绕组段(305);以及

径向间隔件(303),所述径向间隔件位于每个径向间隙中,其中所述相应径向间隔件(303)的尺寸、几何形状或组成中的一者或多者被选择用于在操作期间保持沿着所述磁等中心(206)的所述磁场的均匀性。

2.根据权利要求1所述的MR成像系统(10),其中所述主线圈绕组(204)中的至少第一线圈绕组包括径向间隙和对应径向间隔件(303)。

3.根据权利要求1所述的MR成像系统(10),其中所述主线圈绕组(204)中的至少第一线圈绕组包括两个或更多个径向偏移的径向间隙和在每个径向间隙内的对应径向间隔件(303A,303B)。

4.根据权利要求1所述的MR成像系统(10),其中所述主线圈绕组(204)中的每个线圈绕组包括至少一个径向间隙和对应径向间隔件(303)。

5.根据权利要求1所述的MR成像系统(10),其中所述主线圈绕组(204)中的每个线圈绕组包括两个或更多个径向偏移的径向间隙和对应径向间隔件(303A,303B)。

6.根据权利要求1所述的MR成像系统(10),其中所述径向间隔件(303)由浸渍有环氧树脂的玻璃纤维或结合有环氧树脂的多孔玻璃纤维增强板(FRP)片材构成。

7.一种用于缠绕磁线圈结构(300)的方法(900),所述方法(900)包括:

对于所述磁线圈结构(300)的第一磁线圈,缠绕(步骤902)具有第一内径和第一外径的第一线圈段(301);

测量(步骤903)所述第一线圈段(301)的厚度或所述第一线圈段(301)的所述第一外径中的一者或两者;

基于所述厚度或所述第一外径,确定(步骤904)要在所述第一线圈段(301)中形成的径向间隙的厚度;

在所述径向间隙中形成(步骤905)径向间隔件(303),其中所述径向间隔件(303)的厚度对应于所述径向间隙厚度;

在所述径向间隔件(303)上方缠绕(步骤906)第二线圈段(305),其中所述第二线圈段(305)具有第二内径和第二外径。

8.根据权利要求7所述的方法(900),还包括使用所述第一线圈段(301)的所述厚度或所述第一线圈段(301)的所述第一外径来查询径向间隙几何形状的查找表,以确定要在所述相应线圈段(301)中形成的所述径向间隙的所述厚度。

9.根据权利要求7所述的方法(900),还包括基于所测量的所述第一线圈段(301)的厚度将所述径向间隙的所述厚度调整为更厚或更薄,以在操作期间保持所述磁线圈结构(300)的磁场均匀性。

10.根据权利要求7所述的方法(900),还包括在所述磁线圈结构(500,700)中的一对或多对线圈中形成多于一个径向间隙和对应径向间隔件(303A,303B),以在操作期间保持所述磁线圈结构(500,700)的磁场均匀性。

11.根据权利要求7所述的方法(900),还包括在所述第一线圈段(301)和所述第二线圈段(305)之间形成一个或多个超导接头,以电连接由所述径向间隔件(303)划分的所述第一线圈段(301)和所述第二线圈段(305)。

12.根据权利要求7所述的方法(900),其中形成所述径向间隔件(303)包括由浸渍有环氧树脂的玻璃纤维或结合有环氧树脂的多孔玻璃纤维增强板(FRP)片材中的一者形成所述径向间隔件(303)。

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