[发明专利]粒子射束治疗装置

权利要求书

1.一种粒子射束治疗装置，用于向靶组织发射粒子射束，其特征在于，包括：

固定支撑装置(100)，包括底座，所述底座上设有驱动转动机构，用于作为支撑基础；

旋转支撑装置(200)，可转动地设置于所述固定支撑装置(100)；所述旋转支撑装置(200)做旋转运动时具有旋转中心线(14)，通过所述驱动转动机构提供的动力能够使所述旋转支撑装置(200)绕所述旋转中心线(14)旋转；

同步加速器(400)，设置在所述旋转支撑装置(200)内，用于对粒子射束进行加速，所述同步加速器(400)中具有偏转磁体，所述同步加速器(400)倾斜设置在所述旋转支撑装置(200)内，并使得所述同步加速器(400)所处平面与竖直平面形成夹角，所述同步加速器(400)上连接有第一输送通道(910)；

第一偏转磁体组(500)，设置在所述旋转支撑装置(200)上，用于接收和输送所述第一输送通道(910)输出的粒子射束，所述第一偏转磁体组(500)呈弧状，经所述第一输送通道(910)输出的粒子射束沿所述第一偏转磁体组(500)的输入端的切线方向进入到所述第一偏转磁体组(500)内；

第二偏转磁体组(600)，与所述第一偏转磁体组(500)连接，用于接收和传送所述第一偏转磁体组(500)输出的粒子射束，所述第二偏转磁体组(600)呈弧状，经所述第一偏转磁体组(500)输出的粒子射束沿所述第二偏转磁体组(600)的输入端的切线方向进入到所述第二偏转磁体组(600)内，所述第二偏转磁体组(600)的输出端伸出所述旋转支撑装置(200)，且所述第二偏转磁体组(600)的输出端指向所述旋转支撑装置(200)的旋转中心线(14)；

照射头(800)，连接于所述第二偏转磁体组(600)的末端，粒子射束从所述照射头(800)发射至目标靶组织。

2.根据权利要求1所述的粒子射束治疗装置，其特征在于，所述同步加速器(400)所处平面和与所述旋转支撑装置(200)的旋转中心线(14)垂直的竖直平面呈夹角。

3.根据权利要求1所述的粒子射束治疗装置，其特征在于，所述第一偏转磁体组(500)的输出端位于所述旋转支撑装置(200)的轴向方向的一侧。

4.根据权利要求1所述的粒子射束治疗装置，其特征在于，所述第一偏转磁体组(500)的输出端的切线方向为水平方向或与所述底座的支撑面平行；和/或所述第一偏转磁体组(500)所处平面与所述第二偏转磁体组(600)所处平面共面。

5.根据权利要求1所述的粒子射束治疗装置，其特征在于，所述第一输送通道(910)垂直于水平面或所述底座的支撑面；优选的，所述第一偏转磁体组(500)和所述第二偏转磁体组(600)与所述同步加速器(400)中的偏转磁体组的结构和参数相同；优选的，所述第一偏转磁体组(500)和所述第二偏转磁体组(600)与所述同步加速器(400)中的偏转磁体组的偏转磁体本体的数量相同；优选的，所述第一偏转磁体组(500)和所述第二偏转磁体组(600)与所述同步加速器(400)中偏转磁体组的偏转磁体本体的数量为四个。

6.根据权利要求5所述的粒子射束治疗装置，其特征在于，所述第一偏转磁体组(500)的输出端的切线方向为水平方向或与所述底座的支撑面平行；优选的，所述第一偏转磁体组(500)所处平面与所述第二偏转磁体组(600)所处平面共面。

7.根据权利要求1所述的粒子射束治疗装置，其特征在于，所述第一输送通道(910)朝向所述旋转支撑装置(200)的其中一个侧面倾斜；优选的，所述第一偏转磁体组(500)的输出端朝向所述旋转支撑装置(200)远离所述第一输送通道(910)的一侧延伸；优选的，所述第一偏转磁体组(500)所处平面与所述第二偏转磁体组(600)处平面形成夹角。