[发明专利]图像处理方法、装置、电子设备及计算机可读存储介质有效

专利信息
申请号: 202011076833.8 申请日: 2020-10-10
公开(公告)号: CN111932437B 公开(公告)日: 2021-03-05
发明(设计)人: 王和国;蒋文;黎立煌;张丹 申请(专利权)人: 深圳云天励飞技术股份有限公司
主分类号: G06T1/20 分类号: G06T1/20;G06N3/04
代理公司: 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 代理人: 李艳丽
地址: 518000 广东省深圳市龙岗区园山*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 图像 处理 方法 装置 电子设备 计算机 可读 存储 介质
【权利要求书】:

1.一种图像处理方法,其特征在于,包括:

获取图像特征矩阵以及反卷积核;

根据预设拆分方式,对所述反卷积核进行拆分,得到子卷积核;

根据所述子卷积核的参数以及所述图像特征矩阵,确定所述子卷积核对应的原始子矩阵;

使用所述子卷积核对相应的原始子矩阵进行卷积,得到所述子卷积核对应的反卷积子矩阵;

根据各个所述子卷积核对应的反卷积子矩阵确定目标特征矩阵;

所述根据所述子卷积核的参数以及所述图像特征矩阵,确定所述子卷积核对应的原始子矩阵,包括:

根据左侧反向填充层数和所述子卷积核的列序号计算左侧目标填充层数,以及,根据顶部反向填充层数和所述子卷积核的行序号计算顶部目标填充层数;

根据所述目标特征矩阵的横向尺寸、所述反卷积核的横向滑动步长、所述子卷积核的列序号计算所述反卷积子矩阵的横向尺寸,以及,根据所述目标特征矩阵的纵向尺寸、所述反卷积核的纵向滑动步长、所述子卷积核的行序号计算所述反卷积子矩阵的纵向尺寸;

根据所述图像特征矩阵的横向尺寸、所述反卷积子矩阵的横向尺寸、所述子卷积核的横向尺寸以及所述左侧目标填充层数确定右侧目标填充层数;

根据所述图像特征矩阵的纵向尺寸、所述反卷积子矩阵的纵向尺寸、所述子卷积核的纵向尺寸以及所述顶部目标填充层数确定底部目标填充层数;

根据所述目标特征矩阵、所述左侧目标填充层数、所述右侧目标填充层数、所述顶部目标填充层数以及所述底部目标填充层数确定所述子卷积核对应的原始子矩阵。

2.如权利要求1所述的图像处理方法,其特征在于,所述根据预设拆分方式,对所述反卷积核进行拆分,得到子卷积核,包括:

获取所述反卷积核的横向滑动步长sw和所述反卷积核的纵向滑动步长sh;

根据所述横向滑动步长和所述纵向滑动步长对所述反卷积核进行拆分,得到(sw*sh)个子卷积核。

3.如权利要求2所述的图像处理方法,其特征在于,所述根据所述横向滑动步长和所述纵向滑动步长对所述反卷积核进行拆分,得到(sw*sh)个子卷积核,包括:

获取子卷积核的行序号Q和列序号P,其中,Q为小于sh的自然数,P为小于sw的自然数;

将所述反卷积核中第(Q+K1*sh-PT1+1)行第(P+K2*sw-PL1+1)列的权重值确定为所述子卷积核的权重值,得到(sw*sh)个子卷积核;

其中,K1和K2为自然数,PL1为左侧反向填充层数,PT1为顶部反向填充层数,(Q+K1*sh-PT1+1)小于或等于所述反卷积核的纵向尺寸kh,(P+K2*sw-PL1+1)小于或等于所述反卷积核的横向尺寸kw。

4.如权利要求2所述的图像处理方法,其特征在于,所述根据左侧反向填充层数和所述子卷积核的列序号计算左侧目标填充层数,包括:

用左侧反向填充层数减去所述子卷积核的列序号,得到左侧目标填充层数。

5.如权利要求2所述的图像处理方法,其特征在于,所述根据顶部反向填充层数和所述子卷积核的行序号计算顶部目标填充层数,包括:

用顶部反向填充层数减去所述子卷积核的行序号,得到顶部目标填充行数。

6.如权利要求2所述的图像处理方法,其特征在于,所述根据所述目标特征矩阵的横向尺寸、所述反卷积核的横向滑动步长、所述子卷积核的列序号计算所述反卷积子矩阵的横向尺寸,包括:

计算所述目标特征矩阵的横向尺寸与所述反卷积核的横向滑动步长的商d1和余数r1

若所述子卷积核的列序号小于所述r1,则将(d1+1)确定为所述反卷积子矩阵的横向尺寸;

若所述子卷积核的列序号大于或等于所述r1,则将所述d1确定为所述反卷积子矩阵的横向尺寸。

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