[发明专利]基片处理系统和更换边缘环的方法在审
申请号: | 202011077814.7 | 申请日: | 2020-10-10 |
公开(公告)号: | CN112687512A | 公开(公告)日: | 2021-04-20 |
发明(设计)人: | 林大辅 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳;刘芃茜 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 系统 更换 边缘 方法 | ||
1.一种基片处理系统,其特征在于,包括:
能够处理基片的处理单元,其包括:腔室;和基片支承器,其能够支承包含第一环和搭载在该第一环上的第二环的边缘环,能够在由所述边缘环包围的区域内支承载置在其上的基片,并具有能够同时升起所述第一环和所述第二环的至少一个升降机构;
能够输送所述边缘环的输送臂;
更换单元,所述边缘环的所述第一环和所述第二环中的一者或两者能够在该更换单元中被替换为对应的更换零件,从而能够准备已更换的边缘环;以及
能够控制所述至少一个升降机构和所述输送臂的控制部,
所述控制部控制所述至少一个升降机构以将所述边缘环从所述基片支承器升起,
所述控制部控制所述输送臂,以在所述处理单元与所述更换单元之间输送由所述至少一个升降机构升起了的所述边缘环,在所述更换单元与所述处理单元之间输送在所述更换单元内准备好的所述已更换的边缘环。
2.如权利要求1所述的基片处理系统,其特征在于:
还包括输送单元,其连接在所述处理单元与所述更换单元之间,能够使用所述输送臂经由减压后的腔室的内部输送所述边缘环。
3.如权利要求2所述的基片处理系统,其特征在于,还包括:
与所述输送单元连接的负载锁定单元;
能够经由被设定成大气压的壳体的内部输送所述边缘环的装载单元;和
与所述装载单元连接的装载口,
所述更换单元具有将所述第二环相对于所述第一环升起的其他升降机构,
所述控制部控制所述其他升降机构,以将被输送到所述更换单元的所述边缘环的所述第二环相对于该边缘环的所述第一环升起,
所述控制部控制所述输送臂,以将由所述其他升降机构升起了的所述第二环输送到所述负载锁定单元,
所述控制部控制所述装载单元,以将被输送到所述负载锁定单元的所述第二环输送到所述装载口,
所述控制部控制所述输送臂,以在所述更换单元与所述处理单元之间输送所述已更换的边缘环,所述已更换的边缘环是在所述更换单元内通过将所述第二环替换为对应的更换零件而准备好的。
4.如权利要求2所述的基片处理系统,其特征在于,还包括:
所述更换单元具有:将所述第二环相对于所述第一环升起的其他升降机构;第一收纳区域,在其中收纳从所述处理单元输送来的所述边缘环所包含的所述第二环;和第二收纳区域,在其中收纳与所述第二环进行更换的更换零件,
所述控制部控制所述其他升降机构,以将被输送到所述更换单元的所述边缘环的所述第二环相对于该边缘环的所述第一环升起,
所述控制部控制所述输送臂,以将由所述其他升降机构升起了的所述第二环收纳在所述第一收纳区域内,在所述更换单元与所述处理单元之间输送所述已更换的边缘环,所述已更换的边缘环包含被输送到所述更换单元的所述边缘环的所述第一环和从所述第二收纳区域取出的所述更换零件。
5.如权利要求1所述的基片处理系统,其特征在于:
所述更换单元与所述处理单元直接连接。
6.如权利要求5所述的基片处理系统,其特征在于:
所述更换单元具有:将所述第二环相对于所述第一环升起的其他升降机构;第一收纳区域,在其中收纳从所述处理单元输送来的所述边缘环所包含的所述第二环;和第二收纳区域,在其中收纳与所述第二环进行更换的更换零件,
所述控制部控制所述其他升降机构,以将被输送到所述更换单元的所述边缘环的所述第二环相对于该边缘环的所述第一环升起,
所述控制部控制所述输送臂,以将由所述其他升降机构升起了的所述第二环收纳在所述第一收纳区域内,在所述更换单元与所述处理单元之间输送所述已更换的边缘环,所述已更换的边缘环包含被输送到所述更换单元的所述边缘环的所述第一环和从所述第二收纳区域取出的所述更换零件。
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