[发明专利]一种人造水晶片腐蚀挥发液处理装置

说明书

一种人造水晶片腐蚀挥发液处理装置，包括用于吸收HF废气并对吸收废气后的液体进行预中和的1#槽、用于收集氢氟酸废液以及1#槽中预中和后注入的液体并再次进行预中和的2#槽、用于收集2#槽以及4#槽中液体并对其进行中和处理以及去氟处理的3#槽、用于吸收HF废气以及来自3#槽中的废气并进行预中和的4#槽。有益之处在于：1、经过充分混合、检测，能将废水、废气充分反应，排放后不会造成环境污染；2、处理装置完全封闭，不会造成泄露，保障人身安全；3、自动化程度高，节省了人工成本，降低了劳动强度。

技术领域

本发明涉及石英晶体加工领域，特别是涉及一种人造水晶片腐蚀挥发液处理装置。

背景技术

生成人造石英晶体的人造石英晶体种晶片，简称“种籽片”，在使用种籽片培育成人造石英晶体之前，需要使用氢氟酸对其进行腐蚀以及清洗，使用过的氢氟酸废溶液和挥发气体需要经过处理才能排放。如果吸收废气不充分，氢氟酸中和不彻底，氟离子随废液排放，会造成环境污染；处理过程中，如果人工操作，容易造成人身伤害；随着用人成本的增加，需要提高处理的自动化，以降低用人成本。

发明内容

针对上述技术问题，本发明的目的在于提供一种人造水晶片腐蚀挥发液处理装置。

本发明的目的采用以下技术方案实现。依据本发明提出的一种人造水晶片腐蚀挥发液处理装置，包括用于吸收HF废气并对吸收废气后的液体进行预中和的1#槽、用于收集氢氟酸废液以及1#槽中预中和后注入的液体并再次进行预中和的2#槽、用于收集2#槽以及4#槽中液体并对其进行中和处理以及去氟处理的3#槽、用于吸收HF废气以及来自3#槽中的废气并进行预中和的4#槽。

进一步的，1#槽中设有内部装有中空网孔塑料壳以便于充分吸收HF气体的1#废气吸收室，HF气体从废气吸收室底部进入，废气吸收室顶部设有喷淋装置，4#槽中设有与1#槽结构相同的废气吸收室，4#槽的废气吸收室与3#槽之间连接有管道以便于将3#槽中的废气输入吸收室。

进一步的，1#槽中设有用于1#槽、2#槽、3#槽中和处理的碱液箱，碱液箱中装有NaOH溶液并通过管道与所述1#槽、2#槽、3#槽连接。

进一步的，所述碱液箱与1#槽、2#槽、3#槽连接的管道上设有电磁阀。

进一步的，4#槽中设有通过管道与3#、4#槽连接并用于3#、4#槽去氟的CaCl₂溶液箱，所述CaCl₂溶液箱与3#、4#槽连接的管道上设有电磁阀。

进一步的，1#、2#、3#、4#槽中设有液位检测和液位指示。

进一步的，3#槽设有用于检测PH值的PH计、用于检测氟离子浓度的氟离子浓度计。

进一步的，3#槽中设有PLC控制器，PLC控制器根据PH值浓度、氟离子浓度控制中和、去氟溶液添加的量。

进一步的，1#、2#、3#、4#槽中均设有使槽中液体循环充分反应的循环泵。

进一步的，3#槽上设有用于将中和及去氟处理完毕后的液体排入沉淀池进行沉淀的管道。

与现有技术相比，本发明一种人造水晶片腐蚀挥发液处理装置有益之处在于：

1、经过充分混合、检测，能将废水、废气充分反应，排放后不会造成环境污染；

2、处理装置完全封闭，不会造成泄露，保障人身安全；

3、自动化程度高，节省了人工成本，降低了劳动强度。

上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本发明的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附图，详细说明如下。

附图说明