[发明专利]一种用于高光免喷涂PMMA的耐刮擦剂及其制备方法在审
| 申请号： | 202011081860.4 | 申请日： | 2020-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN112175393A | 公开（公告）日： | 2021-01-05 |
| 发明（设计）人： | 徐力群;刘飞;彭文平;任杰;义贤富;陈双彬;邱里勇;陈欣杰 | 申请（专利权）人： | 浙江佳华精化股份有限公司 |
| 主分类号： | C08L83/04 | 分类号： | C08L83/04;C08L83/10;C08K9/06;C08K3/22;C08L33/12 |
| 代理公司： | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人： | 连平 |
| 地址： | 312367 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 高光免 喷涂 pmma 耐刮擦剂 及其 制备 方法 | ||
1.一种用于高光免喷涂PMMA的耐刮擦剂，其特征在于，以重量份计，包括以下组分：
纳米二氧化锆 40～70份；
改性聚硅氧烷 10～30份；
长链烷基聚硅氧烷 20～50份。
2.根据权利要求1所述的用于高光免喷涂PMMA的耐刮擦剂，其特征在于，所述纳米二氧化锆为经硅烷偶联剂处理的纳米级二氧化锆或为纳米级二氧化锆分散液；其中所述纳米二氧化锆中纳米级二氧化锆的质量份数大于99％。
3.根据权利要求1所述的用于高光免喷涂PMMA的耐刮擦剂，其特征在于，所述改性聚硅氧烷为聚酯改性聚硅氧烷，其结构为：
4.根据权利要求1所述的用于高光免喷涂PMMA的耐刮擦剂，其特征在于，所述长链烷基聚硅氧烷结构式如下：
其中n大于30。
5.根据权利要求1至4任一项所述的用于高光免喷涂PMMA的耐刮擦剂的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)称取改性聚硅氧烷和长链烷基聚硅氧烷加入搅拌釜中升温熔融，待全部熔融后搅拌20～40min，制得熔融料；
(2)称取纳米二氧化锆缓慢加入所述熔融料中，待全部加入完毕后，继续搅拌混合60～120min，得到预混料；
(3)将所述预混料取出，在经过通入冷却水的钢带冷却成片状固体，然后经过磨粉机磨成粉，过筛、称重、打包，制得所述耐刮擦剂。
6.根据权利要求5所述的用于高光免喷涂PMMA的耐刮擦剂的制备方法，其特征在于，步骤(1)和(2)中，所述熔融共混时的温度为100～120℃。
7.根据权利要求5所述的用于高光免喷涂PMMA的耐刮擦剂的制备方法，其特征在于，步骤(3)中，所述过滤过程中筛网规格为6目～10目。
8.一种耐刮擦PMMA复合材料，其特征在于，包括以下组分：
聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)；
耐刮擦剂；
其中，所述耐刮擦剂为上述权利要求1-7任一项所述的用于高光免喷涂PMMA的耐刮擦剂。
9.根据权利要求8所述的耐刮擦PMMA复合材料，其特征在于，还包括高光黑色母和抗氧剂。
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