[发明专利]一种用于压滤机滤布的清洗装置

权利要求书

1.一种用于压滤机滤布的清洗装置，所述压滤机包括多个滤板(11)和滤布(20)，所述滤板的下端固定有安装架(12)，所述滤布设置成能够相对所述滤板运动，其特征在于，所述清洗装置包括：

两根错开且平行安装在所述安装架上的展平定位轴(110)，所述滤板两侧的滤布分别绕过对应的所述展平定位轴并能够绕所述展平定位轴运动；

设置在两根所述展平定位轴的下方的清洗水管(120)，所述清洗水管安装在所述安装架上且与两根所述展平定位轴平行；以及

多个沿轴向均匀间隔开设置在所述清洗水管上的清洗喷头(130)，多个所述清洗喷头依次交替分别对准两根所述展平定位轴；

其中，两根所述展平定位轴构造成能够在所述滤布运动过程中使所述滤布保持居中和展平，并通过所述清洗喷头向所述滤布环绕所述展平定位轴的区域喷射清洗液，从而对所述滤布进行清洗。

2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗喷头采用扇形喷头，所述扇形喷头喷水形成的扇形夹角为60°-150°，且能够对滤布形成连续喷射。

3.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗喷头形成的喷射水线与所述展平定位轴的外表面相切。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的清洗装置，其特征在于，在所述安装架的外侧设有用于连接水箱的旋转接头(121)，所述旋转接头与所述清洗水管的第一端连通。

5.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗水管的第二端连接有移动喷头，所述移动喷头能够从所述滤布的内侧对所述展平定位轴进行清洗和吹扫。

6.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述展平定位轴构造成直径从轴向中部向两端递减。

7.根据权利要求6所述的清洗装置，其特征在于，在所述展平定位轴的外表面上设有多个沿轴向延伸的键槽，多个键槽在所述展平定位轴的周向上均匀分布。

8.根据权利要求6所述的清洗装置，其特征在于，在所述展平定位轴的外周表面上设有凹槽，所述凹槽呈螺旋形延伸分布。

9.根据权利要求6所述的展平定位装置，其特征在于，所述凹槽设置成从轴向中部向两端分别以正螺旋形延伸分布和反螺旋形延伸分布。

10.根据权利要求6所述的展平定位装置，其特征在于，所述展平定位轴设置成能够转动，从而能够在清洗过程中对所述滤布形成振动。