[发明专利]一种高屏蔽效能ITO膜的制造工艺及其设备在审
申请号: | 202011085374.X | 申请日: | 2020-10-12 |
公开(公告)号: | CN112267094A | 公开(公告)日: | 2021-01-26 |
发明(设计)人: | 姜建峰 | 申请(专利权)人: | 赫得纳米科技(昆山)有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/50;C23C14/54;C23C14/56;C23C14/10;C23C14/08;C23C14/06;B01D46/00;B01D46/24 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 汤东凤 |
地址: | 215000 江苏省苏州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 屏蔽 效能 ito 制造 工艺 及其 设备 | ||
本发明公开了一种高屏蔽效能ITO膜的制造工艺及其设备,主要包括外框、电热器、真空机、过滤器和基板架,所述外框顶端中部固定安装有顶壳,顶壳内侧固定安装有电热器,电热器底端装配安装有原料盒,所述外框左侧转动安装有密封门。本发明涉及一种高屏蔽效能ITO膜的制造工艺及其设备,通过内设的灵活基板架,配合紧凑的驱动机械结构,导电结构位于内部,避免外部元素的腐蚀,适应稳定好,镀膜均匀性好,自身寿命有保证,过滤器在抽真空时周期,可以保证滤芯外表面的清洁,避免堵塞,且不需要单独外接驱动设备,对真空设备的做功进行充分利用,更加节能,产生的薄膜真身的屏蔽能力好,自身保护完善。
技术领域
本发明涉及ITO膜制造设备领域,具体是一种高屏蔽效能ITO膜的制造工艺及其设备。
背景技术
ITO薄膜是一种n型半导体材料,具有高的导电率、高的可见光透过率、高的机械硬度和良好的化学稳定性。它是液晶显示器(LCD)、等离子显示器(PDP)、电致发光显示器(EL/OLED)、触摸屏(TouchPanel)、太阳能电池以及其他电子仪表的透明电极最常用的薄膜材料,在进行ITO薄膜加工时,多采用磁控溅射方法进行镀膜。
现有的镀膜设备的结构简陋,自身结构固定,且基板自身的温度低或者温度不均匀,会造成镀膜均匀性差,同时结构的自净能力差,真空排气速率慢,会影响镀膜进度,且镀膜的工艺差,镀膜的屏蔽效能差,且自身的自我能力不足,影响透光度。
发明内容
本发明的目的在于提供一种高屏蔽效能ITO膜的制造工艺及其设备,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:
一种高屏蔽效能ITO膜的制造设备,主要包括外框、电热器、真空机、过滤器和基板架,所述外框顶端中部固定安装有顶壳,顶壳内侧固定安装有电热器,电热器底端装配安装有原料盒,所述外框左侧转动安装有密封门,所述外框前后侧壁贯穿固定安装有电极座,所述外框底端固定安装有底框,底框底端固定安装有检修板,所述底框顶端固定安装有压环,压环与底框之间压接安装有转盘,转盘内侧边缘处贯穿安装有绝缘套,绝缘套内侧转动安装有基板架,基板架底端固定安装有齿轮,所述底框内侧下部固定安装有下齿圈,下齿圈与齿轮啮合连接,所述检修板顶端中部固定安装有控温供电器,控温供电器顶端固定安装有中管,中管外侧转动安装有绝缘环,绝缘环外壁与转盘中部内壁固定连接,所述绝缘环内部嵌设固定安装有上下排列的总供电环,总供电环外侧套设转动安装有总导电环,总导电环与总供电环电性转动连接,所述总导电环侧壁通过线束固定安装有导电环,导电环套设安装在基板架外侧下部,所述转盘底端固定安装有内齿环,所述检修板顶端左部固定安装有电机,电机通过外接齿轮与内齿环啮合连接;
所述外框右侧上部开设有通口,所述外框右侧上部外壁固定安装有引风壳,引风壳内部固定安装有滑套,滑套中部滑动安装有滑杆,滑杆顶端固定安装有顶板,顶板顶端中部固定安装有配重块,配重块底端中部固定安装有波纹管,波纹管底端侧壁固定连接引风壳顶端中部侧壁,所述引风壳顶端贯穿固定安装有波纹管配合的供气头,供气头右端通过管道固定连接有电磁阀,所述引风壳底端侧壁开设有通风孔,所述引风壳底端固定安装有过滤器,过滤器顶端固定安装有真空机,真空机的排风口通过管道与电磁阀底端开口导通,所述滑杆底端固定连接过滤器。
一种高屏蔽效能ITO膜的制造工艺,包括以下步骤:
1)将电镀原料放在原料盒中,采用电热器通电,使高能电流通过电镀原料混合料,使其升华;
2)将基板放在载板上,通过卡块将基板夹紧,将密封门关紧;
3)在外接控制设备上进行镀膜预设,采用周期膜系,预先设定每层厚度,使其正好为设计波长的1/4的倍数,通过计算的到低反射率的必须折射率值,简化镀膜对厚度的控制操作。屏蔽效果随方电阻的减少而增加,方电阻的数值与ITO膜层的电阻率和膜厚有关,其中电阻=电阻率/膜厚。
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