[发明专利]显示面板、显示装置及显示面板的制备方法有效
申请号: | 202011089358.8 | 申请日: | 2020-10-13 |
公开(公告)号: | CN112201682B | 公开(公告)日: | 2022-11-15 |
发明(设计)人: | 邢汝博;刘如胜 | 申请(专利权)人: | 云谷(固安)科技有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/56 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 孟秀娟;刘芳 |
地址: | 065500 河*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 面板 显示装置 制备 方法 | ||
1.一种显示面板,其特征在于,包括阵列基板以及设在所述阵列基板上的OLED层;
所述显示面板包括第一显示区以及至少部分围绕第一显示区的第二显示区,所述第一显示区为透明显示区,用于供射向感光器件的光线透过;
所述第一显示区的所述阵列基板背离所述OLED层的侧面设置有光调制层,所述光调制层用于抑制射向感光器件的光线发生衍射。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述光调制层包括基体层以及若干个依次连接凸起,多个所述凸起设置在基体层背离所述阵列基板的侧面上。
3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,沿第一方向,多个所述凸起的高度呈依次增加的趋势。
4.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,所述基体层和所述凸起的材质均为光学环氧树脂、光学聚氨酯树脂或者光学丙烯酸树脂中的一种。
5.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,所述基体层的厚度为1-20μm。
6.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1-5中任一项所述的显示面板,以及位于所述显示面板背面的感光元件;
所述显示面板中的光调制层与所述感光元件对应。
7.一种显示面板的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
提供阵列基板;
在所述阵列基板上形成OLED层;
在所述阵列基板背离所述OLED层的侧面形成光调制层,并使所述光调制层与所述显示面板的第一显示区对应。
8.根据权利要求7所述的显示面板的制备方法,其特征在于,在所述阵列基板背离所述OLED层的侧面形成光调制层的步骤中包括:
在所述阵列基板背离所述OLED层的侧面形成基体层;
在所述基体层背离阵列基板的表面形成若干个凸起。
9.根据权利要求8所述的显示面板的制备方法,其特征在于,在所述阵列基板背离所述OLED层的侧面形成基体层的步骤包括:
提供点胶机,利用点胶机在所述阵列基板背离所述OLED层的侧面滴加光学树脂预聚体,以形成基体层,其中光学树脂预聚体的材质包括光学环氧树脂、光学聚氨酯树脂或者光学丙烯酸树脂中的一种;
在所述基体层背离阵列基板的表面形成若干个凸起的步骤包括:
提供压印模具,在所述压印模具上形成若干个凹槽,所述凹槽与所述凸起一一对应;
将压印模具压合在所述基体层上,并利用紫外光照射所述基体层使其固化;
移除压印模具,使阵列基板背离所述OLED层的侧面形成具有若干个凸起的光调制层。
10.根据权利要求9所述的显示面板的制备方法,其特征在于,在提供压印模具,在所述压印模具上形成若干个凹槽的步骤中包括:
提供压印基板;
在所述压印基板上形成光刻胶膜层;
图形化所述光刻胶膜层,形成掩膜图案,掩膜图案包括掩膜区和刻蚀区;
去除位于所述刻蚀区内的部分深度的所述压印基板,所述掩膜区对应的所述压印基板形成凸台,相邻凸台之间形成凹槽。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的