[发明专利]一种利用3D对抗样本增强目标检测系统抗干扰能力的方法有效
申请号: | 202011090293.9 | 申请日: | 2020-10-13 |
公开(公告)号: | CN112215151B | 公开(公告)日: | 2022-10-25 |
发明(设计)人: | 周川;陈雷霆 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | G06V20/56 | 分类号: | G06V20/56;G06V10/774;G06V10/764;G06N3/04;G06N3/08 |
代理公司: | 成都中亚专利代理有限公司 51126 | 代理人: | 王岗 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 利用 对抗 样本 增强 目标 检测 系统 抗干扰 能力 方法 | ||
本发明公开了一种利用3D对抗样本增强目标检测系统抗干扰能力的方法;执行过程包括步骤1基于纹理的对抗样本生成;步骤2基于形状的对抗样本生成;步骤3基于渲染的对抗样本生成;步骤4生成预训练数据清洗网络;步骤5将对抗样本图像添加到原训练集中。本发明主要从图形学层面出发,以更全面、系统的方案来生成3D对抗样本,并利用生成的对抗样本来提高目标检测模型的对抗防御能力。
技术领域
本发明涉及抗样本增强目标检测系统抗干扰领域,具体来讲是一种利用3D对抗样本增强目标检测系统抗干扰能力的方法。
背景技术
近年来研究表示,深度学习模型往往易受到对抗样本(adversarial examples)的威胁,即人为地对被检测物进行十分细微(或在人眼视角中相对正常)的改动,就可以使其被学习模型遗漏或误分类。更值得关注是,研究表明对抗样本存在“迁移性”,即针对某一个学习模型得到的对抗样本,输入给其他不同结构、参数、训练集的学习模型,也有可能误导其分析结果,攻击者不需要对目标学习模型有充分的了解,也可能成功对其进行攻击。
针对对抗样本的防御方法也是研究者关注的话题。常用的技术有数据清洗、添加对抗样本到训练集、蒸馏防御等等。这些技术很大程度上遵循“攻防一体”思想,需要对攻击模式有足够全面、深入的了解。总体而言,现有方法都只能在一定程度上降低对抗样本的影响,无法彻底解决其威胁。
目前已有研究者成功将对抗样本从像素层面推广到图形和现实空间,并成功误导目标检测和分类系统。当下,大多数对抗样本的研究依旧集中在图像层面,涉及到3D模型时也以纹理变换为主;而从图形学的角度看,在渲染和形状层面也可以生成3D对抗样本。但由于相关研究较少,目前对于基于图形学的对抗样本研究的理解相对不足,相关的防御措施也较为欠缺。
与本发明相关的现有技术
现有对抗样本生成的技术方案:
2013年,Szegedy等人首次在《Intriguing Properties of Neural Networks》提到了对抗样本的存在,提出了生成对抗样本的最基础理论,并在文中展示了基于L-BFGS方法制作对抗样本并成功误导学习模型的示例。2014年,Goodfellow等人提出了FGSM方法,基于梯度原理制作对抗样本。2016年,Nicolas Papernot等提出了JSMA方法,仅改变输入图像中的某一些像素点即可完成对抗攻击。关于三维空间对抗样本的生成技术,较典型的有2016年Alexey Kurakin首次在论文中展示了真实世界制作对抗样本的技术。2018年,Athalye Anish等人考虑3D对抗样本在实际打印和识别带来的不确定性,将优化目标从目标纹理本身推广到纹理的变换概率分布,即EOT(Expectation of Transformation)方法。同年,Kevin Eykholt等人将其研究应用在交通标志上,对交通指示牌进行人为处理,成功误导了车辆自动驾驶的目标检测系统。
现有对抗样本生成技术的缺点:
当前的研究主要集中在图像域的对抗样本攻击,很少涉及三维空间。有关图形学的应用,也集中在纹理变换,少有从渲染和形状层面对对抗样本进行讨论。如KevinEykholt的对抗样本生成方法,具体在实施上是给交通标志附着一定大小的像素色块。这些方法揭示了对抗样本的威胁性,但在生成过程上缺乏更系统的方案。
现有对抗防御的技术方案:
2009年,Huang Ling等人提出了数据清洗方法,主要对恶意的训练数据进行筛选。另外,还有通过提高学习算法的鲁棒性来增强抗干扰能力的方法,如Bagging,RSM(randomsubspace method)等。另外一类常用技术是将对抗样本添加到训练集中,进而提高模型鲁棒性。此外,2014年Hinton给出的蒸馏防御也是较好的神经网络强化方案,2016年NicolasPapernot提出将该技术应用在应对对抗样本的防御上,取得了一定的进展。
现有对抗防御技术的缺点:
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于电子科技大学,未经电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011090293.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。