[发明专利]一种新型太阳能电池及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202011090341.4 申请日: 2020-10-13
公开(公告)号: CN112201715A 公开(公告)日: 2021-01-08
发明(设计)人: 陈艳;冯志强 申请(专利权)人: 天合光能股份有限公司
主分类号: H01L31/0352 分类号: H01L31/0352;H01L31/068;H01L31/0216;H01L31/18
代理公司: 浙江永鼎律师事务所 33233 代理人: 郭小丽
地址: 213031 江苏省常*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 新型 太阳能电池 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种新型太阳能电池,包括衬底(1),其特征在于,所述的衬底(1)背面由内向外依次沉积有第一SiO2钝化层(2)和叠层膜(3),衬底(1)正面由内向外依次沉积有轻扩散区(4)、第二SiO2钝化层(5)和第二SiNx膜(6),在轻扩散区(4)下设有重扩散区(7),金属栅线(8)依次穿过第二SiNx膜(6)、第二SiO2钝化层(5)和轻扩散区(4)后与重扩散区(7)接触,铝背场(9)依次穿过叠层膜(3)和第一SiO2钝化层(2)后与衬底(1)接触。

2.根据权利要求1所述的一种新型太阳能电池,其特征在于,所述的叠层膜(3)包括位于第一SiO2钝化层(2)上的SiON膜(10)和第一SiNx膜(11)。

3.根据权利要求2所述的一种新型太阳能电池,其特征在于,SiON膜(10)厚度为25-70nm,第一SiNx膜(11)厚度为100-150nm,第一SiNx膜(11)折射率为2.1。

4.根据权利要求2所述的一种新型太阳能电池,其特征在于,所述的第一SiO2钝化层(2)和第二SiO2钝化层(5)的厚度分别为15-25nm。

5.根据权利要求1所述的一种新型太阳能电池,其特征在于,第二SiNx膜(6)厚度为50-100nm,折射率为2.03-2.2。

6.根据权利要求1所述的一种新型太阳能电池,其特征在于,所述的轻扩散区(4)的方块电阻为150-250ohm/sq,重扩散区(7)厚度为1-3um,宽度为50-100um,方块电阻为10-30ohm/sq。

7.根据权利要求1-6任意一项所述的一种新型太阳能电池的制备方法,其特征在于,以P型直拉单晶硅片为衬底(1),衬底(1)正面通过高温扩散形成轻扩散区(4),得到轻发射极,通过涂抹或印刷高浓度含磷液体,并利用激光的高能量实施局部掺杂,形成重扩散区(7),得到重发射极,衬底(1)背面具有SiO2/SiON/SiNx形成的钝化层,激光开槽后印刷Al浆形成铝背场(9),衬底(1)正面印刷Ag材料的金属栅线(8),烧结后形成正背面电极,金属栅线(8)与重扩散区(7)接触。

8.根据权利要求1-6任意一项所述的一种新型太阳能电池的制备方法,其特征在于,选择P型直拉单晶硅片为衬底(1),衬底(1)正面在低压扩散炉管中扩散形成轻扩散区(4),扩散温度控制在700-850℃,形成正面轻N型发射极,扩散后方块电阻控制在150-250ohm/sq,

丝网印刷液态高浓度磷源,印刷时采用非金属网版,印刷压力在80-100N,印刷液体厚度在1-3um之间,印刷宽度在50-100um之间,之后在链式烘干炉烘干,烘干温度为120-200℃,烘干时间在10min之内,

采用激光掺杂在衬底(1)正面制备形成重扩散区(7),即金属接触区域

链式清洗机湿法清洗去除衬底(1)背面扩散,刻蚀深度为2-3um,

采用高温管式氧化炉生长SiO2钝化层,管内温度在750-800℃之间,O2在4L-10L之间,氧化时间在10-15min,在衬底(1)正面的轻扩散区(4)上和衬底(1)背面分别沉积形成第二SiO2钝化层(5)和第一SiO2钝化层(2),

管式PECVD背面沉积叠层膜(3),管式PECVD正面沉积减第二SiNx膜(6),第二SiNx膜(6)厚度为50-100nm,折射率为2.03-2.2,

使用532nm-1064nm的ns激光进行衬底(1)背面局部开槽,将局部的叠层膜(3)去除,丝网印刷Al浆,链式烘干炉烘干Al浆,烘干温度为150-250C,烘干时间为5min-10min,形成铝背场(9),

正面丝网印刷Ag浆,形成金属栅线(8),金属栅线(8)与重扩散区接触,烧结形成欧姆接触,烧结炉烧结浆料,烧结温度为720℃-780℃,正背面共烧,形成正面电极和背面电极。

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