[发明专利]载置台装置及其调整方法、曝光装置以及物品制造方法在审

专利信息
申请号: 202011091475.8 申请日: 2020-10-13
公开(公告)号: CN112666797A 公开(公告)日: 2021-04-16
发明(设计)人: 高桥彰宏;远藤淳生;高坂敦之 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 程晨
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 载置台 装置 及其 调整 方法 曝光 以及 物品 制造
【说明书】:

本发明涉及载置台装置及其调整方法、曝光装置以及物品制造方法。提供对基板保持部的平面度的精度和调整速度的并存有利的载置台装置。保持基板而移动的载置台装置具有:基座;基板保持部,在比所述基座更靠上的位置保持所述基板;多个调整部,设置于所述基座与所述基板保持部之间,为了调整所述基板保持部的基板保持面的形状,针对所述基板保持面的多个部位中的每个部位独立地从下方施加力;以及多个紧固部,与所述多个调整部中的每个调整部对应地设置,使用紧固部件以夹入所述调整部的形态紧固所述基座和所述基板保持部。

技术领域

本发明涉及载置台装置、载置台装置的调整方法、曝光装置以及物品制造方法。

背景技术

在作为平板显示器等的制造工序的光刻工序中,使用步进扫描(step and scan)方式(扫描仪方式)的曝光装置。扫描仪方式的曝光装置一边仅在狭缝状的曝光区域中照射曝光的光一边在扫描方向上同步驱动光掩模(原版)和玻璃基板,将形成于掩模的图案通过光转印到基板上。伴随平板显示器的高精细化、高性能化,转印的图案的微细化得到发展,对扫描仪方式的曝光装置要求实现高的分辨率。

为了提高分辨率,一般采用增大投影光学系统的开口率(NA)的方法。但是,依照瑞利判据,曝光装置的分辨率与投影光学系统的开口率(NA)成反比例地提高,相对于此,投影光学系统的焦点深度(DOF)与开口率的平方成反比例地变小。即,分辨率和焦点深度一般处于折中的关系。因此,在使用具有高的分辨率的投影光学系统的曝光装置中,确保焦点深度成为非常重要的课题。

为了实现期望的分辨率,需要光学系统的像差、掩模平面度、基板平面度等各种聚焦阻碍要素的总和纳入焦点深度内。因此,为了达成高的分辨率,一般对与基板相接地保持基板的基板保持部要求高的平面度。另外,针对部件随时间的变化、装置温度等装置环境的变化的富余度也变小,所以需要长期保持该高的基板平面度,或者作为装置维护进行再调整等来维持平面度。

为了实现基板保持部的高的平面度,实施了基板保持部的高精度加工、装配时的高度调整。在专利文献1中,记载了在加工时在再现与实际使用时相同的应力状态的状态下进行加工,在基板保持部的装配时在基板保持部的正下方设置高度调整部并在高度方向上对其进行驱动,从而实现预定的平面度。另外,在专利文献1中,能够通过真空吸附或者磁力来切换基板保持部与调整可动部(调整部具有在高度方向上驱动的可动部和固定到基座(base)侧的固定部)之间的结合状态。而且,通过在高度调整部的驱动前解除结合、在驱动后再结合这样的步骤,进行基板保持部的平面度调整。由此,防止了伴随高度调整而在基板保持部中发生的歪斜所引起的应力的产生及残留,防止了由于残留应力随时间缓和而产生的平面度变化。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本专利第5932305号公报

发明内容

发明要解决的问题

然而,基板保持部需要吸附并保持基板的功能,所以需要具有与基板相同程度的大小,例如,在G8.5代中一条边甚至达到2500mm。基板保持部的材质多数情况下使用铝等轻金属或者陶瓷等,但在一体地制作时,存在材料的获得性的问题、加工机受到限制等问题,制作困难或者成本非常高。另外,即使能够一体地制作,但为了以高的平面度加工能够吸附保持该尺寸的基板的整个面的大型的基板保持部,需要相应的部件刚度。这意味着基板保持部变得厚且重。基板保持部在基板载置台上构成,是与基板载置台一起在平面内驱动的部件,所以该部件的重量增加使基板载置台的致动器的负荷增大,导致基板载置台不必要地巨大化。

相对于此,通过将基板保持部分割为多个并减小每个部分的尺寸,能够缓解材料的获得性、加工机受限等问题。但是,为了提高单个产品的加工精度,需要与一体的情况同样地提高部件刚度。另外,在分割基板保持部的情况下,在邻接的基板保持部之间的邻接边处产生高度差,在这样的部位处平面度急剧变化,所以存在在曝光时产生图案缺陷的情况。因此,对邻接边附近的调整更要求精度。

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