[发明专利]表层随机介质模型建立方法、装置、电子设备及介质

权利要求书

1.一种表层随机介质模型建立方法，其特征在于，包括：

根据自相关函数，建立随机过程功率谱与二维随机场；

根据所述随机过程功率谱与所述二维随机场，计算随机功率谱；

计算所述随机功率谱的二维傅里叶逆变换，获得随机扰动；

建立关于所述自相关函数的随机扰动，进而获得随机介质模型。

2.根据权利要求1所述的表层随机介质模型建立方法，其中，所述随机过程功率谱为：

其中，为随机过程功率谱，是的原像，k_x,k_z为像函数的自变量。

3.根据权利要求1所述的表层随机介质模型建立方法，其中，通过公式(2)计算所述随机功率谱：

其中，Ψ(k_x,k_z)为随机功率谱，为随机过程功率谱，θ(k_x,k_z)为二维随机场。

4.根据权利要求1所述的表层随机介质模型建立方法，其中，所述随机扰动为：

其中，ψ(x,z)为随机扰动，Ψ(k_x,k_z)为随机功率谱。

5.根据权利要求1所述的表层随机介质模型建立方法，其中，建立关于所述自相关函数的随机扰动包括：

计算所述随机扰动的均值及方差；

根据所述随机扰动的均值及方差，建立关于所述自相关函数的随机扰动。

6.根据权利要求5所述的表层随机介质模型建立方法，其中，关于所述自相关函数的随机扰动为：

其中，σ(x,z)为关于自相关函数的随机扰动，ψ(x,z)为随机扰动，d为随机扰动的标准差，μ为随机扰动的均值，ε为关于自相关函数的随机扰动的标准差。

7.根据权利要求1所述的表层随机介质模型建立方法，其中，所述随机介质模型为：

υ(x,z)＝υ₀(1+σ(x,z)) (5)

其中，υ(x,z)为随机介质模型，σ(x,z)为关于自相关函数的随机扰动，υ₀为随机模型的初始速度。

8.一种表层随机介质模型建立装置，其特征在于，包括：

傅里叶变换模块，根据自相关函数，建立随机过程功率谱与二维随机场；

随机功率谱确定模块，根据所述随机过程功率谱与所述二维随机场，计算随机功率谱；

傅里叶逆变换模块，计算所述随机功率谱的二维傅里叶逆变换，获得随机扰动，进而计算所述随机扰动的均值及方差；

随机介质模型建立模块，建立关于所述自相关函数的随机扰动，进而获得随机介质模型。

9.一种电子设备，其特征在于，所述电子设备包括：

存储器，存储有可执行指令；

处理器，所述处理器运行所述存储器中的所述可执行指令，以实现权利要求1-7中任一项所述的表层随机介质模型建立方法。

10.一种计算机可读存储介质，其特征在于，该计算机可读存储介质存储有计算机程序，该计算机程序被处理器执行时实现权利要求1-7中任一项所述的表层随机介质模型建立方法。