[发明专利]一种弯管铸件在审
申请号: | 202011094270.5 | 申请日: | 2020-10-14 |
公开(公告)号: | CN111998171A | 公开(公告)日: | 2020-11-27 |
发明(设计)人: | 杨淑媛;梁婉 | 申请(专利权)人: | 杨淑媛 |
主分类号: | F16L57/02 | 分类号: | F16L57/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 541000 广西壮族*** | 国省代码: | 广西;45 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 弯管 铸件 | ||
1.一种弯管铸件,其特征在于,包括弯管主管体(1),所述弯管主管体(1)的外侧设有弯管外护管(2),所述弯管外护管(2)远离弯管主管体(1)的一侧面上安装有弯管外护套(3),所述弯管主管体(1)远离弯管外护管(2)的一侧面上设有弯管内衬嵌管(4),所述弯管内衬嵌管(4)远离弯管主管体(1)的一侧面上设有弯管内衬管(5),所述弯管主管体(1)的两端上均设有弯管端头护架(6),所述弯管主管体(1)包括主架构管(11)、外嵌合纹面(12)和内嵌合纹面(13),所述主架构管(11)的外侧面中间处打磨有外嵌合纹面(12),所述主架构管(11)的内侧壁上打磨有内嵌合纹面(13)。
2.根据权利要求1所述的一种弯管铸件,其特征在于,所述弯管外护管(2)包括低碳素钢护管本体(21)、缓冲预留槽(22)、嵌合端头槽(23)和连接内嵌环(24),所述低碳素钢护管本体(21)的外侧面两端均开凿有嵌合端头槽(23),每个所述嵌合端头槽(23)内均设有连接内嵌环(24),两个所述嵌合端头槽(23)之间对应的低碳素钢护管本体(21)外壁上开凿有多个缓冲预留槽(22),相邻两个缓冲预留槽(22)之间的间距相同,所述缓冲预留槽(22)与缓冲预留槽(22)的开凿深度相同,所述嵌合端头槽(23)的宽度为缓冲预留槽(22)宽度的四倍,所述缓冲预留槽(22)的深度为低碳素钢护管本体(21)厚度的三分之二,所述低碳素钢护管本体(21)的内侧壁贴合设置在外嵌合纹面(12)上,所述低碳素钢护管本体(21)与外嵌合纹面(12)之间浇筑成型连接。
3.根据权利要求1所述的一种弯管铸件,其特征在于,所述弯管外护套(3)包括抗压弹性管(31)、连接栓(32)和中间垫(33),所述抗压弹性管(31)的两端上各插设有六个连接栓(32),所述连接栓(32)的旋进端均由外向内贯穿于抗压弹性管(31)设置,所述抗压弹性管(31)内侧对应的连接栓(32)上均螺纹连接有中间垫(33),所述中间垫(33)均设置在连接内嵌环(24)的外侧壁上,所述连接栓(32)穿过中间垫(33)的一端贯穿连接内嵌环(24)设置,所述抗压弹性管(31)的内壁贴合设置在低碳素钢护管本体(21)的外壁上。
4.根据权利要求1所述的一种弯管铸件,其特征在于,所述弯管内衬嵌管(4)包括外操内嵌管(41)、内壁嵌槽(42)和内衬钢圈(43),所述外操内嵌管(41)的内侧壁上设有多个内壁嵌槽(42),相邻两个所述内壁嵌槽(42)之间的间距相同,且每个所述内壁嵌槽(42)内均嵌合设有内衬钢圈(43),所述内壁嵌槽(42)的外径大于内衬钢圈(43)的外径,所述外操内嵌管(41)的外侧壁固定浇筑在内嵌合纹面(13)上。
5.根据权利要求1所述的一种弯管铸件,其特征在于,所述弯管内衬管(5)包括内槽芯管(51)、外壁嵌槽(52)、端头防脱盘(53)、增阻磨砂面(54)和管道内通腔(55),所述内槽芯管(51)的外侧面上开凿有多个外壁嵌槽(52),所述外壁嵌槽(52)与内壁嵌槽(42)的个数与位置互相对应,所述外壁嵌槽(52)的内径等于内衬钢圈(43)的内径,所述内槽芯管(51)的两端上均设有端头防脱盘(53),所述端头防脱盘(53)的外壁上打磨有增阻磨砂面(54),所述内槽芯管(51)的内部设有管道内通腔(55),所述管道内通腔(55)的两端分别贯穿两个端头防脱盘(53)设置,所述内槽芯管(51)的外侧面与外操内嵌管(41)的内侧壁之间贴合设置,所述内衬钢圈(43)嵌合在外壁嵌槽(52)内。
6.根据权利要求1所述的一种弯管铸件,其特征在于,所述弯管端头护架(6)包括抗压外束钢圈(61)和焊接条(62),所述抗压外束钢圈(61)的数量为三个,三个所述抗压外束钢圈(61)之间通过六个焊接条(62)连接,三个所述抗压外束钢圈(61)互相平行设置,且相邻两个所述抗压外束钢圈(61)之间的间距相同,六个所述焊接条(62)之间互相平行,且六个所述焊接条(62)以抗压外束钢圈(61)的圆心为中点呈圆形阵列设置,所述抗压外束钢圈(61)的内壁与焊接条(62)的内侧边均设置在主架构管(11)的外侧面上。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杨淑媛,未经杨淑媛许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011094270.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。