[发明专利]超声波清洗装置、半导体设备及其控制方法

说明书

本发明提供了一种超声波清洗装置、半导体设备及其控制方法，涉及半导体加工技术领域，其中，超声波清洗装置包括：超声波发生模块、检测模块和多个并联的超声波换能模块；超声波发生模块分别与供电电源和多个超声波换能模块连接，用于向每个超声波换能模块提供驱动信号；超声波换能模块用于在驱动信号的驱动下发射超声波；检测模块与超声波发生模块连接，用于检测流过超声波发生模块的工作电流，并根据工作电流判断是否存在异常的超声波换能模块；若是，则发出报警信号，报警信号用于提示存在异常的超声波换能模块。本发明可以避免出现由于超声波换能模块发生异常而导致的待清洗件清洗不均匀的问题。

技术领域

本发明涉及半导体加工技术领域，具体涉及一种超声波清洗装置、半导体设备及其控制方法。

背景技术

目前，超声波清洗主要是通过超声波换能器，将电能转换成机械振动，使清洗槽内的液体在超声波的作用下，产生气泡，超声波在液体中传播时，气泡迅速增大，然后突然闭合，并在气泡闭合时产生冲击波，冲击力能够对固体表面进行擦洗。

超声波清洗装置包括超声波发生器和多个超声波换能器，超声波发生器用于驱动多个超声波换能器进行振动以发射超声波。多个超声波换能器采用并联接线方式，当其中某个超声波换能器损坏时，其他超声波换能器仍能继续正常工作，但是，损坏的超声波换能器的超声波输出减弱甚至停止，导致多个超声波换能器输出的超声波不再一致，这样，当清洗步骤持续进行后，将导致待清洗件表面的清洗不均匀，影响清洗效果。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种超声波清洗装置、半导体设备及其控制方法。

为了实现上述目的，本发明提供一种超声波清洗装置，应用于半导体设备中，所述半导体设备包括清洗槽，其中，所述超声波清洗装置包括：超声波发生模块、检测模块和多个并联的超声波换能模块；

所述超声波发生模块分别与供电电源和多个所述超声波换能模块连接，用于向每个所述超声波换能模块提供驱动信号；

所述超声波换能模块用于在所述驱动信号的驱动下发射超声波；

所述检测模块与所述超声波发生模块连接，用于检测流过所述超声波发生模块的工作电流，并根据所述工作电流判断是否存在异常的所述超声波换能模块；若是，则发出报警信号，所述报警信号用于提示存在异常的所述超声波换能模块。

可选地，所述检测模块包括：电流采集子模块和判断子模块；

所述电流采集子模块与所述超声波发生模块连接，所述电流采集子模块用于检测流过所述超声波发生模块的所述工作电流；

所述判断子模块用于判断所述工作电流是否处于预设电流范围之外，若是，则确定存在异常的所述超声波换能模块。

可选地，所述电流采集子模块包括钳形电流互感器，所述钳形电流互感器连接在所述超声波发生模块与所述供电电源之间的连接线路上；

所述判断子模块包括可编程逻辑控制器。

可选地，所述超声波清洗装置还包括：显示模块，所述显示模块与所述检测模块连接，用于对所述检测模块检测到的所述工作电流的大小进行显示；和/或，显示所述报警信号。

本发明还提供一种半导体设备，其中，包括清洗槽和上述的超声波清洗装置，所述清洗槽包括槽体；

所述超声波清洗装置的多个所述超声波换能模块设置在所述槽体上，所述超声波换能模块用于朝向所述清洗槽中发射超声波。

可选地，所述超声波换能模块均设置在所述槽体的底壁上。