[发明专利]一种原位蒸镀的弱等离子刻蚀设备

权利要求书

1.一种原位蒸镀的弱等离子刻蚀设备，其特征在于：包括刻蚀腔体(1)、弱等离子放射机构(2)、真空机构、冷阱机构(4)、样品托(5)以及驱动机构(6)，所述刻蚀腔体(1)连接在拉曼光谱检测蒸发室下方，所述刻蚀腔体(1)外表面上设有腔门(8)，所述弱等离子放射机构(2)、真空机构以及冷阱机构(4)均与刻蚀腔体(1)相通，所述真空机构和冷阱机构(4)均用于将刻蚀腔体(1)内进行真空，所述样品托(5)位于刻蚀腔体(1)内，所述样品托(5)上搭载有靶材，所述驱动机构(6)位于刻蚀腔体(1)的下方，所述驱动机构(6)驱动所述样品托(5)在竖直方向上运动以使所述样品托(5)靠近或远离拉曼光谱检测蒸发室，所述弱等离子放射机构(2)包括导轨(21)、射频罩(24)、石英玻璃管(22)以及放气电磁阀组件(23)，所述导轨(21)设置在机架上，所述石英玻璃管(22)两端均设有支架(25)，所述石英玻璃管(22)通过两组支架(25)水平位于导轨(21)上方，所述射频罩(24)套设在石英玻璃管(22)上，所述射频罩(24)滑动连接在滑轨上，所述射频罩(24)内包括有缠绕在石英玻璃管(22)上的射频绕线(241)以及支撑射频绕线(241)的支撑板(242)，所述放气电磁阀组件(23)连接在石英玻璃管(22)一端，所述放气电磁阀组件(23)与石英玻璃管(22)以及刻蚀腔体(1)均相通且构成一个放射通道，所述放气电磁阀组件(23)用于将工艺气体通入石英玻璃管(22)内，所述石英玻璃管(22)与刻蚀腔体(1)之间设有第一插板阀(7)。

2.根据权利要求1所述一种原位蒸镀的弱等离子刻蚀设备，其特征在于：所述驱动机构(6)包括样品台(27)、升降组件(61)以及自转组件(62)，所述刻蚀腔体(1)底部贯穿，所述样品台(27)紧压在刻蚀腔体(1)底部，所述升降组件(61)包括固定板(611)、螺杆(612)、移动板(613)、以及第一旋转电机(614)，所述固定板(611)一端固定在样品台(27)上，另一端固定连接第一旋转电机(614)，所述螺杆(612)的一端固定在第一旋转电机(614)的驱动轴上，另一端转动连接在样品台(27)底部，所述移动板(613)螺纹套设在螺杆(612)上，所述自转组件(62)包括支板(621)、内轴(623)、轴套(624)、圆盘(626)、第一转动齿(625)以及第二旋转电机(622)，所述支板(621)与移动板(613)固定连接，所述第二旋转电机(622)位于支板(621)底部，所述内轴(623)与第二旋转电机(622)的驱动轴连接，所述内轴(623)的一端依次穿过样品台(27)和圆盘(626)，所述第一转动齿(625)套设在圆盘(626)上方的内轴(623)上，所述轴套(624)套设在圆盘(626)下方的内轴(623)上，所述轴套(624)一端与圆盘(626)固定连接，另一端通过轴承连接在支板(621)上，所述样品托(5)包括外壳(51)及加热组件，所述外壳(51)通过轴承与加热组件连接，所述加热组件固定连接在圆盘(626)上，所述外壳(51)底部上套设有第二转动齿(20)，所述第一转动齿(625)与第二转动齿(20)啮合，所述第一旋转电机(614)驱动螺杆(612)转动以使移动板(613)在竖直方向上运动，且支板(621)带动轴套(624)在竖直方向上以使样品托(5)靠近或远离拉曼光谱检测蒸发室，所述第二旋转电机(622)驱动内轴(623)转动以使第一转动齿(625)转动，所述第一转动齿(625)转动驱动第二转动齿(20)转动以使外壳(51)自转。

3.根据权利要求2所述一种原位蒸镀的弱等离子刻蚀设备，其特征在于：所述样品台(27)上方的轴套(624)上设有外套(28)，所述外套(28)上设有通过定位销连接的第三转动齿(627)，所述轴套(624)上还设有与定位销匹配的滑槽(6241)，所述驱动机构(6)还包括公转组件(63)，所述公转组件(63)包括第三旋转电机(631)以及第四转动齿(632)，所述第三旋转电机(631)固定在样品台(27)底部，所述第三旋转电机(631)的驱动轴穿过样品台(27)，所述第四转动齿(632)套设在第三旋转电机(631)的驱动轴上，所述第四转动齿(632)与第三转动齿(627)啮合，所述第三旋转电机(631)驱动所述第四转动齿(632)转动以使所述第三转动齿(627)转动，所述第三转动齿(627)转动带动圆盘(626)转动以使圆盘(626)上的样品托(5)以内轴(623)为中心公转。