[发明专利]一种去除阳极氧化铝表面沉积污染物的清洗方法在审

申请号：	202011097943.2	申请日：	2020-10-14
公开（公告）号：	CN112354976A	公开（公告）日：	2021-02-12
发明（设计）人：	穆帅帅;张代龙;马有杰;贺贤汉	申请（专利权）人：	富乐德科技发展（天津）有限公司
主分类号：	B08B7/00	分类号：	B08B7/00;B08B3/08;B08B3/02;B08B3/12;B24B27/033;F26B21/14
代理公司：	天津市新天方专利代理有限责任公司 12104	代理人：	孔珍
地址：	301712 天津***	国省代码：	天津;12
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摘要：
搜索关键词：	一种去除阳极氧化铝表面沉积污染物清洗方法
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【说明书】：

本发明是一种去除阳极氧化铝表面沉积污染物的清洗方法，其步骤如下：确认部件的氧化面和非氧化面；干冰清洗；异丙醇浸泡；纯水冲洗；氨水双氧水浸泡；纯水冲洗；氧化表面研磨；汽水枪冲洗；超声波清洗；纯水冲洗；氮气吹扫；干燥将部件取出即可。本发明采用干冰喷砂清洗，便于去除部件表面大部分的沉积污染物，并且不会对部件产生损伤，使用超声波清洗和超纯氮气清扫氧化部件表面，大大减少了部件表面的颗粒污染物，采用此方法将氧化部件表面的颗粒污染物和沉积污染物完全去除，减少了氧化部件上氧化层的损耗，增加氧化部件的使用次数，降低了客户的使用成本。

技术领域

本发明涉及半导体设备精密备件洗净技术领域，尤其涉及一种去除阳极氧化铝表面沉积污染物的清洗方法。

背景技术

半导体制程设备、光电制程设备中的蚀刻工艺腔体的核心备件在使用过程中氧化部件表面易沉积污染物，需要定期清洗。蚀刻设备中氧化部件的传统清洗方法，是只使用研磨布进行研磨，这种方法工艺单一，操作方便，但是不能完全去除氧化部件表面的沉积污染物，对于对颗粒污染物要求较高的蚀刻腔体，是不能满足使用要求的，而且只采用单一研磨工艺，研磨时间较长，对氧化部件上氧化层的损耗很大，减少了氧化部件的使用次数同时也增加了客户的使用成本。

发明内容

本发明旨在解决现有技术的不足，而提供一种去除阳极氧化铝表面沉积污染物的清洗方法。

本发明为实现上述目的，采用以下技术方案：

一种去除阳极氧化铝表面沉积污染物的清洗方法，其步骤如下：

(1)对待清洗的部件进行仔细检查，确认氧化面和非氧化面；

(2)干冰清洗

使用干冰喷砂机对部件的氧化面进行喷砂清洗，去除表面粘附的副产物；干冰喷砂机的参数如下：压力为4-5kg/cm²，时间为3-5分钟，喷砂介质为固体干冰；

(3)异丙醇浸泡

将干冰喷砂清洗后的部件置于盛有异丙醇的清洗槽中，浸泡30分钟，去除表面粘附的有机污染物；

(4)纯水冲洗

将部件从步骤(3)的清洗槽中取出，放置于冲洗台上，使用电阻率18兆欧的纯水对部件进行冲洗3-5分钟，冲洗完毕后，使用压缩空气将部件表面的水迹吹干；

(5)氨水双氧水浸泡