[发明专利]2.5D孔隙结构微流体芯片及其制作和使用方法有效
申请号: | 202011098551.8 | 申请日: | 2020-10-14 |
公开(公告)号: | CN112275334B | 公开(公告)日: | 2021-07-20 |
发明(设计)人: | 胡冉;魏鹳举;廖震;周晨星;郭威;陈旭升;王一凡;武东生;陈益峰 | 申请(专利权)人: | 武汉大学 |
主分类号: | B01L3/00 | 分类号: | B01L3/00 |
代理公司: | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人: | 朱宏伟 |
地址: | 430072 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 2.5 孔隙 结构 流体 芯片 及其 制作 使用方法 | ||
本发明涉及2.5D孔隙结构微流体芯片及其制作和使用方法,2.5D孔隙结构微流体芯片包括上部图案层和下部水平基片层,所述上部图案层包括流体注入口、微流体芯片主体图案和排液口,所述微流体芯片主体图案包括桥体和多个间隔设置的圆柱区域,相邻的圆柱区域通过桥体连接,圆柱区域高度为30‑50μm,桥体高度为15‑25μm。本发明2.5D微流体芯片的圆柱区域和桥体错落设置,与传统2D微流体芯片相比,其内部通道是不均匀的,更为贴近真实自然界状况,所得试验数据更有代表性。本发明提出的2.5D孔隙结构微流体芯片的使用方法操作简便、极易上手且应用灵活,能够大幅缩短试验时间,快速分析出所需结果。
技术领域
本发明涉及岩体及土壤多相渗流技术领域,更具体地说,涉及一种2.5D孔隙结构微流体芯片及其制作和使用方法。
背景技术
岩土体及土壤中的多相渗流过程涉及许多重要的自然和工业过程(如城市地下水系统修复、油气强化开采、二氧化碳地质封存等)。利用室内试验研究多相渗流过程是比较有效的手段。目前,室内试验大多利用2D微流体芯片进行研究,2D微流体芯片内部的通道高度是均匀不变的,所得实验结果不能很好地反映自然界的真实情况。
发明内容
本发明要解决的技术问题在于,提供一种2.5D孔隙结构微流体芯片及其制作和使用方法,能够较为真实地反映自然界内多相渗流过程。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:构造一种2.5D孔隙结构微流体芯片,包括上部图案层和下部水平基片层,所述上部图案层包括流体注入口、微流体芯片主体图案和排液口,所述微流体芯片主体图案包括桥体和多个间隔设置的圆柱区域,相邻的圆柱区域通过桥体连接,圆柱区域高度为30-50μm,桥体高度为15-25μm。
上述方案中,所述上部图案层的两端设置有注入口和排液口,注入口连接毛细空心钢针,毛细空心钢针通过毛细软管与注射器相连;排液口连接毛细空心钢针,毛细空心钢针通过毛细软管将试验结束后的废液排入指定容器内。
上述方案中,所述上部图案层和下部水平基片层的材质均为聚二甲基硅氧烷。
上述方案中,所述微流体芯片主体图案尺寸为2mm×1mm。
本发明还提供了一种所述2.5D孔隙结构微流体芯片的制作方法,包括以下步骤:
利用一号掩膜板对旋涂有SU8-2035光刻胶的硅片进行第一次紫外曝光,利用二号掩膜板对旋涂有SU8-2015光刻胶的硅片进行第二次紫外曝光,然后经过显影固化后得到光刻胶模具;将混合有固化剂的聚二甲基硅氧烷液搅拌均匀后倒入光刻胶模具中,固化键合后,即得到制作好的2.5D孔隙结构微流体芯片。
SU8-2035光刻胶能够旋涂的主要范围是40um-100um,SU8-2015光刻胶能够旋涂的主要范围是35-15um。因为2.5D芯片具有两种不同的厚度:圆柱区域高度为30-50μm,桥体高度为15-25μm,正好分别对应SU8-2035光刻胶和SU8-2015光刻胶能够满足的范围内,采用两种不同型号的光刻胶,能够对两种不同的高度需求分别进行精确控制;如果选择同一种光刻胶,可能会因为操作精度而造成制作失败。
上述方案中,所述一号掩膜版的图案包括圆柱区域和桥体,且均设置为不透光区域。
上述方案中,所述二号掩膜版的图案只包括桥体,且设置为透光区域。
本发明还提供了一种所述2.5D孔隙结构微流体芯片的使用方法,包括以下步骤:
首先将制作好的2.5D微流体芯片两端的注入口和排液口进行管路连接,再将连接好管路的2.5D微流体芯片置于显微镜上,开启显微镜,打开电脑端记录软件;然后注射器内吸入适量硅油或去离子水,开启注射泵,将硅油或水注入2.5D微流体芯片中,电脑端软件实时记录图像数据,以便后期进行数据分析。
实施本发明的2.5D孔隙结构微流体芯片及其制作和使用方法,具有以下有益效果:
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